[发明专利]基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质

说明书

本发明提供一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质，对于减少向基板喷出的处理液中的微粒是有用的。本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备：喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；送液部，其向喷出部输送处理液；补充部，其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液；连接部，其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀；过滤器，其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除；补充准备部，其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小，之后打开所述切换阀；以及补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的情况下，使补充部开始向送液部补充处理液。

技术领域

本公开涉及一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质。

背景技术

在专利文献1中公开了一种从处理液供给源经由喷出部向被处理体供给处理液的处理液供给装置。该处理液供给装置具备设置于处理液供给源的下游侧的第一泵、设置于第一泵的次级侧且用于去除处理液中的异物的过滤器部、以及设置于过滤器部的次级侧的第二泵。另外，处理液供给装置具备控制部，所述控制部执行使被导入第一泵的处理液通过过滤器后将其供给至第二泵的步骤。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-220547号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供一种对于减少向基板喷出的处理液中的微粒有用的基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质。

用于解决问题的方案

本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备：喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；送液部，其向喷出部输送处理液；补充部，其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液；连接部，其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀；过滤器，其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除；补充准备部，其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小，之后打开所述切换阀；以及补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的状态下，使补充部开始向送液部补充处理液。

发明的效果

根据本公开，提供一种对于减少向基板喷出的处理液中的微粒有用的基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质。

附图说明

图1是表示基板处理系统的概要结构的一例的示意图。

图2是表示涂布显影装置的内部结构的一例的示意图。

图3是表示液处理单元的结构的一例的示意图。

图4是表示处理液供给部的一例的示意图。

图5是表示控制装置的功能结构的一例的框图。

图6是表示控制装置的硬件结构的一例的框图。

图7是表示液处理过程的一例的流程图。

图8的(a)是表示喷出准备过程的一例的流程图。图8的(b)是表示喷出控制过程的一例的流程图。

图9的(a)是用于说明喷出准备过程的一例的示意图。图9的(b)是用于说明喷出控制过程的一例的示意图。

图10是表示排出准备过程的一例的流程图。

图11是表示排出控制过程的一例的流程图。

图12是表示补充准备过程的一例的流程图。