[发明专利]一种集成无源器件及其制作方法和集成电路在审

专利信息
申请号: 202010668108.3 申请日: 2020-07-13
公开(公告)号: CN111968995A 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 樊永辉;许明伟;樊晓兵;曾学忠 申请(专利权)人: 深圳市汇芯通信技术有限公司
主分类号: H01L27/13 分类号: H01L27/13;H01L21/84
代理公司: 深圳市博衍知识产权代理有限公司 44415 代理人: 曾新浩
地址: 518000 广东省深圳市华富街道莲花一*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 集成 无源 器件 及其 制作方法 集成电路
【权利要求书】:

1.一种集成无源器件,其特征在于,至少包括第一功能层,以及堆叠制作在所述第一功能层表面的第二功能层;所述第一功能层集成了第一无源器件,所述第二功能层集成了第二无源器件。

2.如权利要求1所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述集成无源器件包括第三功能层,所述第三功能层设置在所述第二功能层上,所述第三功能层集成了第三无源器件;

所述第一无源器件、所述第二无源器件和所述第三无源器件包括电容、电感或电阻。

3.如权利要求2所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述第一无源器件为电感,所述第二无源器件为电容,所述第三无源器件为电阻;

所述第一功能层为电感层,所述第二功能层为电容层,所述第三功能层为电阻层。

4.如权利要求3所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述集成无源器件包括:

衬底;

第一钝化层,设置在所述衬底上;

电感层,设置在所述第一钝化层上;

第一金属间介质层,设置在所述电感层上;

电容层,设置在所述第一金属间介质层上;

第二金属间介质层,设置在所述电容层上;

第三金属间介质层,设置在所述第二金属间介质层上;

电阻层,设置在所述第三金属间介质层上;以及

第二钝化层,设置在所述电阻层上。

5.如权利要求4所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述电容层包括多个电容,所述电容包括下电极、电容介质、上电极和第一金属连线,所述下电极设置在所述第一金属间介质层上,所述电容介质设置在所述下电极上,所述上电极和第一金属连线设置在所述电容介质上;

所述下电极与所述电感层中的电感连通,所述上电极和第一金属连线与所述电阻层中的电阻连通。

6.如权利要求4所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述集成无源器件包括:

背孔,贯穿所述衬底和第一钝化层;以及

背面金属层,设置在所述衬底的下表面,通过所述背孔与所述电感连接。

7.如权利要求2所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述第一功能层中的多个第一无源器件同制程形成,所述第二功能层中的多个第二无源器件同制程形成,所述第三功能层中的多个第三无源器件同制程形成。

8.如权利要求3所述的一种集成无源器件,其特征在于,所述第一功能层至少包括堆叠而成的第一电感层和第二电感层,所述第二功能层至少包括堆叠而成的第一电容层和第二电容层。

9.一种集成无源器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:

形成衬底;

在所述衬底上形成包括多个第一无源器件的第一功能层;以及

在所述第一功能层上形成包括多个第二无源器件的第二功能层。

10.一种集成电路,其特征在于,包括如权利要求1至8任意一项所述的集成无源器件。

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