[发明专利]显示屏驱动结构和显示屏驱动结构的制造方法有效
申请号: | 202010686929.X | 申请日: | 2020-07-16 |
公开(公告)号: | CN111834431B | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 李明阳 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
主分类号: | H10K59/12 | 分类号: | H10K59/12;H10K59/121;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 姚文娴;张颖玲 |
地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示屏 驱动 结构 制造 方法 | ||
1.一种显示屏驱动结构,其特征在于,所述驱动包括:
衬底;
基于所述衬底,依次覆盖有缓冲层、栅极绝缘层、层间介电层、平坦层和像素定义层;所述缓冲层上设置有多晶硅;所述栅极绝缘层上设置有栅极;
基于所述多晶硅、所述栅极绝缘层和所述栅极,形成多个薄膜晶体管和至少一个电容;其中,所述薄膜晶体管包括驱动晶体管和开关晶体管;所述多晶硅包括第一类多晶硅、第二类多晶硅和第三类多晶硅;所述第一类多晶硅对应所述驱动晶体管;所述第二类多晶硅对应所述开关薄膜晶体管;所述第三类多晶硅对应所述电容;其中,所述第一类多晶硅是通过固相结晶SPC工艺形成的;
所述多个薄膜晶体管和至少一个电容连接。
2.根据权利要求1所述的显示屏驱动结构,其特征在于,
所述第一类多晶硅中设置有第一源区、第一漏区和第一沟道区;所述第一源区和第一漏区在所述第一沟道区两侧;所述第一源区作为第一源极;所述第一漏区作为第一漏极;
所述第二类多晶硅中设置有第二源区、第二漏区和第二沟道区;所述第二源区和第二漏区在所述第二沟道区两侧;所述第二源区作为第二源极;所述第二漏区作为第二漏极。
3.根据权利要求2所述的显示屏驱动结构,其特征在于,
所述层间介电层上设置有源漏引出极;所述源漏引出极与所述薄膜晶体管对应的源极或漏极连接;所述源极包括第一源极和第二源极;所述漏极包括第一漏极和第二漏极。
4.根据权利要求3所述的显示屏驱动结构,其特征在于,
所述第一漏极通过第一通孔与对应的第一源漏引出极连接;所述第一通孔穿过所述栅极绝缘层和所述层间介电层;
所述第一源漏引出极通过第二通孔与阳极连接;所述第二通孔穿过所述平坦层;所述阳极设置在所述平坦层上。
5.根据权利要求4所述的显示屏驱动结构,其特征在于,
所述像素定义层上设置有模柱;所述模柱位于所述阳极两侧;所述模柱用于保护所述阳极。
6.根据权利要求1至5任一项所述的显示屏驱动结构,其特征在于,所述第二类多晶硅是通过准分子激光退火结晶ELA工艺形成的。
7.根据权利要求6所述的显示屏驱动结构,其特征在于,所述第一源区和第一漏区为P型掺杂区。
8.根据权利要求7所述的显示屏驱动结构,其特征在于,所述第二源区和第二漏区为N型掺杂区。
9.根据权利要求8所述的显示屏驱动结构,其特征在于,所述第二类多晶硅还包括N型轻掺杂区;所述N型轻掺杂区在所述第二沟道区与所述第二源区之间,以及所述第二沟道区与所述第二漏区之间。
10.根据权利要求1所述的显示屏驱动结构,其特征在于,覆盖在所述第一类多晶硅上的栅极绝缘层为第一栅极绝缘层;覆盖在所述第二类多晶硅上的栅极绝缘层为第二栅极绝缘层;所述第一栅极绝缘层的厚度与所述第二栅极绝缘层的厚度不同。
11.根据权利要求10所述的显示屏驱动结构,其特征在于,
所述第一栅极绝缘层的厚度小于所述第二栅极绝缘层的厚度。
12.根据权利要求1所述的显示屏驱动结构,其特征在于,所述SPC工艺的温度为650℃~700℃。
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