[发明专利]一种GPP工艺光刻硅片吸盘

权利要求书

1.一种GPP工艺光刻硅片吸盘，包括吸附盘(1)和连接盘(2)，其特征在于：所述吸附盘(1)的内部成型有下侧开口的空腔(11)，吸附盘(1)的上底面上成型有若干圆周均布的细孔(12)；所述连接盘(2)包括连接板(21)，连接板(21)上成型有同轴心设置的第一凸环(22)和第二凸环(23)，连接板(21)密封固定在吸附盘(1)的下端面上，连接板(21)、第一凸环(22)、第二凸环(23)和空腔(11)的底面形成的第一真空腔(101)不与细孔(12)相通；连接板(21)、第一凸环(22)和空腔(11)的底面形成的第二真空腔(102)和连接板(21)、第二凸环(22)和空腔(11)的底面形成的第三真空腔(103)通过设置在连接盘(2)上的通孔(24)相通；所述第一真空腔(101)的底面上成型有多个圆周均布的第一阀孔(13)，第一阀孔(13)内套接有顶杆(31)，顶杆(31)通过弹簧(32)固定连接有弹簧固定环(33)，弹簧固定环(33)固定在第一阀孔(13)内；所述第一凸环(22)上成型有连通第一真空腔(101)和第二真空腔(102)的第二阀孔(25)，第二阀孔(25)的外端成型有球形内壁(26)，第二阀孔(25)内套接有顶珠(41)，顶珠(41)固定在浮杆(42)的一端，浮杆(42)的另一端插套在第二凸环(22)上的导沉孔(27)内，浮杆(42)与沉孔(27)之间夹持有压簧(43)；

所述连接板(21)上成型有与第一真空腔(101)相通的负压管连接孔(28)。

2.根据权利要求1所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述第一凸环(22)的上端面、第二凸环(23)的上端面与空腔(11)的底面之间夹持有密封垫(51)。

3.根据权利要求1所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述连接板(21)上成型有定位止口(29)，定位止口(29)的两侧设有一对对称设置的连接块(20)。

4.根据权利要求3所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述吸附盘(1)的上底面的外缘上成型有沉槽，沉槽内套接有第一密封圈(52)，第一密封圈(52)的上侧壁高出吸附盘(1)的上底面。

5.根据权利要求1所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述第一阀孔(13)的内壁上成型有密封槽，密封槽内套接有第二密封圈(53)，第二密封圈(53)的内圈压靠在顶杆(31)的外壁上。

6.根据权利要求1所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述顶杆(31)的上端成型有球形外壁(34)，球形外壁(34)的上端伸出到吸盘盘(1)的上底面外。

7.根据权利要求1所述的一种GPP工艺光刻硅片吸盘，其特征在于：所述第一凸环(22)和第二凸环(23)之间设有两个定位销(54)，定位销(54)的下端插套并固定在连接板(21)上，定位销(54)的上端插套在吸附盘(1)的定位孔(14)内。