[发明专利]一种GPP工艺光刻硅片吸盘在审
申请号: | 202010687610.9 | 申请日: | 2020-07-16 |
公开(公告)号: | CN111812950A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 魏运秀 | 申请(专利权)人: | 赣州市业润自动化设备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;B65G47/91 |
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地址: | 341003 江西省赣州市赣州经济开发*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 gpp 工艺 光刻 硅片 吸盘 | ||
本发明公开了一种GPP工艺光刻硅片吸盘,包括吸附盘和连接盘,吸附盘和连接盘形成的第一真空腔、第二真空腔和第三真空腔,第二真空腔和第三真空腔通过设置在连接盘上的通孔相通;第一真空腔的底面上成型有多个圆周均布的第一阀孔,第一阀孔内套接有顶杆,顶杆通过弹簧固定连接有弹簧固定环,弹簧固定环固定在第一阀孔内;第一真空腔和第二真空腔之间设有第二阀孔,第二阀孔的外端成型有球形内壁,第二阀孔内套接有顶珠,顶珠连接有压簧;所述连接板上成型有与第一真空腔相通的负压管连接孔。本发明不仅可以对硅片提供稳定的吸附力,同时在取片时能自动将硅片顶离吸盘,可有效提高工作效率。
技术领域
本发明涉及半导体生产技术领域,具体涉及一种GPP工艺光刻硅片吸盘。
背景技术
GPP工艺光刻工序是GPP工艺中必不可少的一道工序,过程控制和质量好坏对DPP工艺产品质量、成本控制起着至关重要的作用。改进操作方法和工装夹具,提高该工序质量合格率和工作效率,为该产品在市场竞争中提供基础保障,是每个GPP工艺产品生产单位都乐意为之的事情。曝光后硅片吸盘与硅片之间因真空吸附,充气时间长,取片困难,容易破损,工作效率低,损耗大。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种GPP工艺光刻硅片吸盘,它不仅可以对硅片提供稳定的吸附力,同时在取片时能自动将硅片顶离吸盘,可有效提高工作效率。
本发明解决所述技术问题的方案是:
一种GPP工艺光刻硅片吸盘,包括吸附盘和连接盘,所述吸附盘的内部成型有下侧开口的空腔,吸附盘的上底面上成型有若干圆周均布的细孔;所述连接盘包括连接板,连接板上成型有同轴心设置的第一凸环和第二凸环,连接板密封固定在吸附盘的下端面上,连接板、第一凸环、第二凸环和空腔的底面形成的第一真空腔不与细孔相通;连接板、第一凸环和空腔的底面形成的第二真空腔和连接板、第二凸环和空腔的底面形成的第三真空腔通过设置在连接盘上的通孔相通;所述第一真空腔的底面上成型有多个圆周均布的第一阀孔,第一阀孔内套接有顶杆,顶杆通过弹簧固定连接有弹簧固定环,弹簧固定环固定在第一阀孔内;所述第一凸环上成型有连通第一真空腔和第二真空腔的第二阀孔,第二阀孔的外端成型有球形内壁,第二阀孔内套接有顶珠,顶珠固定在浮杆的一端,浮杆的另一端插套在第二凸环上的导沉孔内,浮杆与沉孔之间夹持有压簧;
所述连接板上成型有与第一真空腔相通的负压管连接孔。
所述第一凸环的上端面、第二凸环的上端面与空腔的底面之间夹持有密封垫。
所述连接板上成型有定位止口,定位止口的两侧设有一对对称设置的连接块。
所述吸附盘的上底面的外缘上成型有沉槽,沉槽内套接有第一密封圈,第一密封圈的上侧壁高出吸附盘的上底面。
所述第一阀孔的内壁上成型有密封槽,密封槽内套接有第二密封圈,第二密封圈的内圈压靠在顶杆的外壁上。
所述顶杆的上端成型有球形外壁,球形外壁的上端伸出到吸盘盘的上底面外。
所述第一凸环和第二凸环之间设有两个定位销,定位销的下端插套并固定在连接板上,定位销的上端插套在吸附盘的定位孔内。
本发明的突出效果是:与现有技术相比,其不仅可以对硅片提供稳定的吸附力,同时在取片时能自动将硅片顶离吸盘,可有效提高工作效率。
附图说明
图1为本发明的结构示意图(顺时针旋转90度后);
图2为本发明的仰视图;
图3为图1关于A的局部放大图;
图4为图1关于B-B的剖视图;
图5为图4关于C的局部放大图;
图6为本发明的密封垫的结构示意图。
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