[发明专利]提高膜片钳试验时hERG-HEK293细胞稳定性的培养方法在审
| 申请号： | 202010689177.2 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN111849915A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 卜迁;岑小波;魏倩;宋文博;李耀 | 申请（专利权）人： | 成都华西海圻医药科技有限公司;四川大学 |
| 主分类号： | C12N5/10 | 分类号： | C12N5/10 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡;张娟 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提高 膜片 试验 herg hek293 细胞 稳定性 培养 方法 | ||
【权利要求书】：
1.提高膜片钳试验时hERG-HEK293细胞稳定性的培养方法，其特征在于，包括：
1)使用含FBS 10％～20％v/v的培养基进行培养；
2)当细胞融合度为80％～90％时，对细胞进行传代，传代时，加入有效量消化酶室温下消化20±5秒，倒掉消化酶，再将装细胞的培养瓶放入37℃培养箱孵育2±0.5分钟，使细胞从贴壁状态转为游离状态；再加入培养基终止消化。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤1)的FBS含量为20％v/v。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述培养基使用前均在37摄氏度下预热。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述培养基是DMEM高糖培养基。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述消化酶是TrypLETMExpress。
6.如权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于：步骤2)中所述消化酶的用量为0.04mL/cm2细胞贴壁面积。
7.如权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于：步骤2)中室温消化时间为20秒。
8.如权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于：步骤2)中所述37℃培养箱孵育时间为2分钟。
9.如权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于：步骤2)中所述终止消化用的培养基体积为消化酶体积的2倍。
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