[发明专利]一种半导体电极材料的加工方法有效

专利信息
申请号: 202010698765.2 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN111834182B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 李红年;舒玉田;袁鹏;郭荣;谭飞鸿 申请(专利权)人: 中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂)
主分类号: H01J9/04 分类号: H01J9/04;H01J1/146
代理公司: 贵州派腾知识产权代理有限公司 52114 代理人: 周黎亚
地址: 550018 贵州省*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 电极 材料 加工 方法
【说明书】:

本发明属于电极生产技术领域,具体涉及一种半导体电极材料的加工方法,包括如下步骤:1)灌胶;2)切割;3)双面磨片;4)去胶;5)端面腐蚀;6)抛光;本发明实现了标准化、批量化生产,其生产周期短,效率高。

技术领域

本发明属于电极生产技术领域,具体涉及一种半导体电极材料的加工方法。

背景技术

钨具有熔点高、高温强度好、热电子发射能力强等特点,很早就被用作热电子发射材料。钨基热电子发射材料是一种关键工业材料,常用作电子设备阴极和氩弧焊接电极。钨电极广泛应用于惰性气体保护焊、等离子体焊接、切割、热喷涂以及电真空等领域。

目前,采用钨电极或者钼电极制成半导体器件的研究正在发展中,如专利公开号CN103681671B《具有钨栅电极的半导体器件及其制造方法》等,但目前关于钨电极或钼电极的生产制造方法研究较少,并且由于钨电极产品受限于国家标准《电弧焊和等离子焊接、切割用钨电极》制定之前,钨电极产品相关标准主要有国际标准ISO6848—2004(E)《电弧焊和切割.非自耗钨电极.分类》等标准,这使得大批量化制备电极片、低成本制作的工艺罕见。

另一方面,钼的导热性和导电性好,热膨胀系数低,通常可以做成板、棒、球等形状,但钼电极单根尺寸小,钼电极长度较短,无法批量生产大单重大规格的钼电极,易造成钼丝的质量问题,因此找寻一种成品率高、大批量制作钼电极的方法尤为重要。

目前,钼电极加工的方法是木杆原料用自制砂轮切割机Φ140㎜×0.4㎜的环氧树脂砂轮片切割成所需颗粒并留研磨量,通过人工将切割好的钼电极组装在圆环里,将装好的钼电极放在加热板上加热至140℃,用混合胶粘接若干钼电极片后进行研磨工序,此方法费工费力,材料消耗大。

发明内容

本发明针对现有技术的不足,提出了一种利用半导体电极材料制作电极片的方法。

具体是通过以下技术方案来实现的:

一种半导体电极材料的加工方法,包括如下步骤:

1)灌胶;2)切割;3)双面磨片;4)去胶;5)端面腐蚀;6)抛光。

所述半导体电极材料为钨电极材料、钼电极材料、钨钼合金中任意一种。

所述灌胶是先将混合粘胶加热调匀,制得熔融态的混合粘胶,然后将熔融态的混合粘胶灌进装有半导体电极杆的铁管中,经加压、排气,使得混合粘胶填充半导体电极杆间的缝隙。

所述混合粘胶由松香和虫胶按(4.5-5):(3.5-4)的质量比混合后,加热至150-160℃后搅拌制成混合胶。

所述灌胶,其温度为140℃。

所述切割,其工艺条件为:切割钢线为0.16㎜的镀铜钢丝,切割砂为1000号碳化硅微粉,切割油为DX-悬浮切割油;切割砂浆由切割油、切割砂按(1~1.5):(0.8~1)的比例混合而成,切割线速度为:0.1~0.5㎜/min。

所述去胶,是将半导体电极片放入水中加热,然后按照水:去胶材料=10:1的质量比加入去胶材料,煮沸后保温,再用自来水冲洗至表面无杂质。

所述去胶材料为氢氧化钠。

所述端面腐蚀是采用硝酸对电极腐蚀1-2min,重复操作,清水洗净后,千分尺抽检电极,较腐蚀前高度尺寸小于0.01~0.015㎜即完成端面腐蚀。

所述抛光,其工艺条件:抛光液滚抛2-3h,抛光液由去污粉、水按(1-3):100的质量比混合而成。本发明所述的加工方法可适用于半导体绝缘衬底材料、蓝宝石的制作。

所述半导体绝缘衬底材料为非金属超硬脆材料。

所述半导体绝缘衬底材料为陶瓷、氧化铍、硅中任意一种。

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