[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；

用于在处理空间中支撑基板的支撑单元；

用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元；和

多个灯，多个灯设置在支撑单元中以加热支撑在支撑单元上的基板，

其中支撑单元包括：

可旋转的卡盘台；以及

设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口，

其中窗口包括：

板状的基座；以及

形成在基座上的用于调节从灯发出的光的方向或光的量的光调节装置。

2.根据权利要求1所述的装置，其中光调节装置包括从基座突出的边缘凸部，其中边缘凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的边缘区域。

3.根据权利要求1所述的装置，其中光调节装置包括从基座突出的中央凸部，其中中央凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的中央区域。

4.根据权利要求1所述的装置，其中光调节装置包括：

从基座突出的边缘凸部，其中边缘凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的边缘区域；以及

从基座突出的中央凸部，其中中央凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的中央区域。

5.根据权利要求1所述的装置，其中支撑单元包括：

用于支撑基板的底表面的支撑销；以及

用于支撑基板的侧表面的卡盘销，

其中支撑销安装在窗口上。

6.根据权利要求2所述的装置，其中边缘凸部具有向内部分和向外部分，其中向内部分具有顶部倾斜面，所述顶部倾斜面的倾斜度小于向外部分的顶部倾斜面的倾斜度。

7.根据权利要求2所述的装置，其中边缘凸部以环形延伸。

8.根据权利要求4所述的装置，其中中央凸部的宽度大于边缘凸部的宽度。

9.根据权利要求4所述的装置，其中窗口的在边缘凸部和中央凸部之间的区域是平坦的。

10.根据权利要求4所述的装置，其中光调节装置还包括凹进基座中的凹部，其中凹部设置在边缘凸部和中央凸部之间，以散发从灯发出的光。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中当从上方观察时，灯中的最外侧灯位于放置在支撑单元上的基板的端部的内侧。

12.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中光调节装置形成在窗口的顶表面上。

13.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中光调节装置形成在窗口的底表面上。

14.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中每个灯以环形延伸，并且灯彼此同心。

15.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中基座和光调节装置彼此一体地形成。

16.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中处理液包括磷酸。

17.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中窗口由石英制成。

18.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

用于支撑基板的支撑构件；

用于加热放置在支撑构件上的基板的灯；以及

放置在灯和在支撑构件上放置的基板之间的窗口，以透射从灯发出的光，

其中窗口包括：

板状的基座；以及

形成在基座上以使从灯发出的光会聚或扩散的光调节装置。