[发明专利]基板处理装置

说明书

用于处理基板的装置包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；用于在处理空间中支撑基板的支撑单元；用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元；以及加热单元，其设置在支撑单元中用于加热支撑在支撑单元上的基板，其中加热单元包括：用于加热基板的多个灯；以及设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口，其中该窗口包括：板状的基座；和光调节装置，其形成在基座上以扩散或会聚从灯发出的光。

技术领域

在此描述的发明构思的实施方式涉及一种基板处理装置，更具体地，涉及一种在基板被加热的状态下处理基板的基板处理装置。

背景技术

通常，在平板显示装置制造工艺或半导体制造工艺中的处理玻璃或基板的过程中，进行诸如光刻胶涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺的各种工艺。

每个工艺包括使用化学液体或去离子水以去除附着于基板的各种污染物的湿法清洁工艺以及干燥工艺以干燥残留在基板表面上的化学品或去离子水。

近来，使用诸如磷酸之类的在高温下使用的化学水溶液执行蚀刻工艺以去除氮化硅膜和氧化硅膜。使用高温化学水溶液的基板处理装置包括使用灯的基板加热装置以加热基板以改善蚀刻速率。

通常，多个灯彼此同心地布置。在这种情况下，灯没有布置在面对基板的中央的区域中，使得基板的中央区域比其其他区域受热较小。

此外，当从上方观察时，由于各种结构因素，位于最外侧的灯位于基板的端部的内侧，从而与其他区域相比，基板的边缘区域相对较少受热。

与基板的其他区域相比，这导致基板的中央和边缘区域中的蚀刻均匀性降低。

发明内容

本发明构思的实施方式提供一种基板处理装置，其能够在基板处理过程中均匀地加热基板。

此外，本发明构思的实施方式提供一种基板处理装置，其防止在基板处理过程期间当基板的边缘区域被较少加热时否则会发生的基板处理效率的劣化。

此外，本发明构思的实施方式提供一种基板处理装置，其防止在基板处理过程期间当基板的中央区域被较少加热时否则会发生的基板处理效率的劣化。

本发明构思的目的不限于此。通过以下描述，本领域技术人员将清楚地理解未提及的其他目的。

根据示例性实施方式，用于处理基板的装置包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；用于在处理空间中支撑基板的支撑单元；用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元；和多个灯，多个灯设置在支撑单元中以加热支撑在支撑单元上的基板，其中支撑单元包括可旋转的卡盘台以及设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口，其中窗口包括板状的基座，以及形成在基座上的用于调节从灯发出的光的方向或光的量的光调节装置。

光调节装置可以包括从基座突出的边缘凸部，其中边缘凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的边缘区域。

光调节装置可以包括从基座突出的中央凸部，其中中央凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的中央区域。

光调节装置可以包括：从基座突出的边缘凸部，其中边缘凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的边缘区域；以及从基座突出的中央凸部，其中中央凸部的位置对应于放置在支撑单元上的基板的中央区域。

支撑单元可以包括：用于支撑基板的底表面的支撑销；以及用于支撑基板的侧表面的卡盘销，其中支撑销可以安装在窗口上。

边缘凸部可具有向内部分和向外部分，其中向内部分可具有顶部倾斜面，该顶部倾斜面的倾斜度小于向外部分的顶部倾斜面的倾斜度。

边缘凸部可以以环形延伸。

中央凸部的宽度可以大于边缘凸部的宽度。

窗口的在边缘凸部和中央凸部之间的区域可以是平坦的。