[发明专利]有机发光显示面板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202010702752.8 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN111799398A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 彭利满;刘亮亮;白妮妮;唐亮;郭强;吴岩 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 尚伟净
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种制作有机发光显示面板的方法,其特征在于,包括:

在基板上形成阳极材料层,在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜,基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理,形成多个阳极;

形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层,所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽,对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理,形成多个像素界定结构,所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分,并覆盖所述阳极的部分表面,

其中,构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同,所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部,以及由所述像素界定层构成的第二部,所述凹槽位于所述第二部中。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,形成所述阳极包括:

在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜材料层,对所述掩膜材料层进行曝光显影形成所述掩膜;

基于所述掩膜对所述阳极材料层进行刻蚀,形成所述阳极。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,形成所述像素界定结构包括:

对所述像素界定层和所述掩膜进行曝光显影,以形成所述像素界定结构。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述掩膜的厚度为

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层,所述阳极材料层设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。

6.一种有机发光显示面板,其特征在于,包括:

基板;

多个阳极,所述阳极设置在所述基板上;

像素界定结构,所述像素界定结构包括第一部和第二部,所述第一部覆盖所述阳极的部分表面,所述第二部覆盖所述第一部以及所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分,构成所述第一部的材料和构成所述第二部的材料相同。

7.根据权利要求6所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述第一部的厚度为

8.根据权利要求7所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述第二部覆盖所述第一部的部分,与所述第二部覆盖所述基板的部分构成凹槽,所述凹槽的深度大于

9.根据权利要求6所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层,所述阳极设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求6-9任一项所述的有机发光显示面板。

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