[发明专利]半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法以及半色调掩模

权利要求书

1.半色调掩模的缺陷修正方法，通过在半色调掩模的半透射部的缺陷修正对象区域形成修正膜，从而修正在半透射部产生的缺陷，其特征在于，包括：

主膜成膜工序，在缺陷修正对象区域，以使得透射率和半透射部的透射率相等的方式，形成主膜；

填补膜成膜工序，在即使通过主膜的成膜也仍然残留在缺陷修正对象区域的高透射部，以使得高透射部的透射率和半透射部的透射率相等的方式，形成填补膜。

2.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，

主膜是外边缘部的膜厚比除外边缘部的部分的均匀的膜厚要薄的膜；

主膜成膜工序以和缺陷修正对象区域一致的形状形成主膜，或者，在缺陷修正对象区域的边界的至少一部分和主膜的外边缘的至少一部分之间产生间隙并形成主膜；

填补膜成膜工序以从缺陷修正对象区域的边界到主膜的外边缘部的宽度，在沿缺陷修正对象区域的边界以及主膜的外边缘部生成的高透射部，形成填补膜。

3.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，

主膜成膜工序包括：

基层成膜工序，形成具有比半透射部的透射率高的透射率的基层；

透射率调整层成膜工序，以使得主膜的透射率和半透射部的透射率相等的方式，在基层上形成一层或者多层透射率调整层。

4.根据权利要求3所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，

基层是外边缘部的膜厚比除外边缘部的部分的均匀的膜厚要薄的膜；

基层成膜工序以在缺陷修正对象区域的边界和基层的外边缘之间形成间隙的方式，形成基层；或者，以基层的外边缘和缺陷修正对象区域的边界相接的方式，形成基层。

5.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，填补膜成膜工序包括透射率调整层成膜工序，透射率调整层成膜工序以使得高透射部的透射率和半透射部的透射率相等的方式，形成一层或者多层透射率调整层。

6.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，包括修整工序，修整工序在主膜成膜工序之前，设定包含缺陷的规定形状的缺陷修正对象区域，去除缺陷修正对象区域内存在的既存的半透射膜。

7.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，在缺陷超过规定尺寸的情况下，将缺陷修正对象区域分割为多个并进行缺陷修正。

8.根据权利要求1所述的半色调掩模的缺陷修正方法，其特征在于，通过在原料气体的氛围中，对缺陷修正对象区域内照射激光光束，从而形成修正膜。

9.半色调掩模的制造方法，包括：

在透明基板上，形成遮光部、透射部以及半透射部的工序；

修正在半透射部产生的缺陷的缺陷修正工序；其特征在于，

作为缺陷修正工序，采用权利要求1至8中任一项所述的缺陷修正方法。

10.半色调掩模，在透明基板上，包括遮光部、透射部以及半透射部，在半透射部包括修正膜，其特征在于，

修正膜包括：

主膜，以使得透射率和半透射部的透射率相等的方式成膜；

填补膜，在光凭主膜还是和半透射部的透射率不相等的高透射部，以使得高透射部的透射率和半透射部的透射率相等的方式成膜。

11.根据权利要求10所述的半色调掩模，其特征在于，主膜包括：

基层，具有比半透射部的透射率高的透射率；

一层或者多层透射率调整层，在基层上，以使得主膜的透射率和半透射部的透射率相等的方式成膜。

12.根据权利要求10所述的半色调掩模，其特征在于，填补膜包括一层或者多层透射率调整层，透射率调整层以使得高透射部的透射率和半透射部的透射率相等的方式成膜。