[发明专利]半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法以及半色调掩模

说明书

本发明的课题是提供可进行极高精度的缺陷修正的半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法，以及缺陷被极高精度地修正的半色调掩模。本发明的半色调掩模的缺陷修正方法通过在半透射部3的缺陷修正对象区域5形成修正膜10，从而修正在半透射部3产生的缺陷4，包括：主膜成膜工序，在缺陷修正对象区域5，以使得透射率和半透射部3的透射率相等的方式，形成主膜8；填补膜成膜工序，在即使通过主膜8的成膜也仍然残留在缺陷修正对象区域5的高透射部，以使得透射率和半透射部3的透射率相等的方式，形成填补膜9。

技术领域

本发明涉及在半色调掩模的半透射部产生的缺陷的修正方法，采用此方法的半色调掩模的制造方法，以及采用此方法制造的半色调掩模。

背景技术

作为光刻法技术，半色调掩模已为人知。半色调掩模通过具备透射率介于透射部的透射率(也称透光率。以下，同样。)和遮光部的透射率之间的半透射部，实现结合了由透射部产生的白色灰阶以及遮光部产生的黑色灰阶的二灰阶，和由半透射部产生的白和黑中间(灰色调)的灰阶的多灰阶(三灰阶以上)，因此也被称为多灰阶光掩模。通过使用半色调掩模，能够以一次曝光将曝光量不同的图案形成为光刻胶。因此，能够预期减少光掩模的使用片数，减少制造工序，进而减少制造成本。

在此，在半色调掩模中，由于制造工序上等的问题，可能产生的缺陷大致分两种。一种是半透射部的一部分存在缺损的缺陷(如果存在缺损，透射率会上升，因此称为“白缺陷”。)。另一种是半透射部的一部分存在残余或者异物的缺陷(如果存在异物等，透射率会下降，因此称为“黑缺陷”。)。

产生这种缺陷时，需要对缺陷进行修正。在白缺陷的情况下，通过在缺损部分形成修正膜，从而修正白缺陷。在黑缺陷的情况下，通过将异物等或者异物等所在的半透射部的部分去除，根据需要形成新的修正膜，从而修正黑缺陷。

作为缺陷修正方法，专利文献1记载的方法或者专利文献2记载的方法已为人知。这些方法是使用激光CVD(Chemical Vapor Deposition)法形成修正膜的方法。即，这些方法是通过使从激光振荡器射出的激光通过开口，用物镜进行聚光，对被置于反应气体氛围中的缺陷修正对象光掩模的表面进行照射，从而形成CVD膜的修正膜。根据激光CVD法，能够使修正膜的膜厚均匀化。由此，可进行高精度的缺陷修正。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本特开2010-210919号公报

专利文献2日本特开2017-173670号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，近年来，随着制品的进一步高品质化，对高精度图案形成的要求逐渐提高。在下一代显示器的面板所使用的有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode、也称有机EL(Organic Electro-Luminescence)。)的情况下，和液晶面板相比，还存在半透射部大面积化的情况。因此，不仅是缺陷修正，也需要进一步的高精度化。

因此，本发明针对上述情况而提出，其课题在于，提供可进行极高精度的缺陷修正的半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法，以及缺陷被极高精度地修正的半色调掩模。

用于解决课题的手段

本发明的半色调掩模的缺陷修正方法，

通过在半色调掩模的半透射部的缺陷修正对象区域形成修正膜，从而修正在半透射部产生的缺陷，包括：

主膜成膜工序，在缺陷修正对象区域，以使得透射率和半透射部的透射率相等的方式，形成主膜；

填补膜成膜工序，在即使通过主膜的成膜也仍然残留在缺陷修正对象区域的高透射部，以使得透射率和半透射部的透射率相等的方式，形成填补膜。