[发明专利]一种铜磷蒸发料的处理工艺有效
| 申请号： | 202010711851.2 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN111876787B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;毛杰 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/10 | 分类号： | C23G1/10;C22F1/08;C23G1/24;C23C14/14;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 蒸发 处理 工艺 | ||
1.一种铜磷蒸发料的处理工艺，其特征在于，所述处理工艺包括对所述铜磷蒸发料依次进行的第一酸洗、热等静压扩散处理、研磨、第二酸洗、清洗及干燥，得到处理后的铜磷蒸发料；
其中，所述热等静压扩散处理的温度为700-800℃；所述热等静压扩散处理的保温时间为4.5-6h；所述研磨至少进行3次；所述研磨进行第一次的转速为50-90r/min；所述研磨进行第二次的转速为50-90r/min；所述研磨进行第三次的转速为100-150r/min。
2.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述第一酸洗中所用的洗液包括硝酸溶液。
3.如权利要求2所述的处理工艺，其特征在于，所述硝酸溶液的质量分数为25-40％。
4.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述第一酸洗的时间为1-2min。
5.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述热等静压扩散处理的绝对真空度为0.01-0.1Pa。
6.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨中铜磷蒸发料的体积≤研磨中研磨桶体积的1/3。
7.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨中研磨剂的添加量为10-20mL。
8.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨中的研磨剂包括洗洁精和/或洗手液。
9.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨进行第一次的研磨时间为1-10min。
10.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨进行第二次的研磨时间为1-15min。
11.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述研磨进行第三次的研磨时间为1-10min。
12.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述第二酸洗中所用的洗液包括硫酸溶液。
13.如权利要求12所述的处理工艺，其特征在于，所述硫酸溶液的质量分数为20-30％。
14.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述第二酸洗的时间为1-2min。
15.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述清洗中所用的洗液包括异丙醇和/或乙醇。
16.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述清洗的时间为1-2min。
17.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述干燥的方式为真空干燥。
18.如权利要求17所述的处理工艺，其特征在于，所述真空干燥的绝对真空度为0.01-0.1Pa。
19.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述干燥的温度为60-80℃。
20.如权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述干燥的时间为50-80min。
21.如权利要求1-20任一项所述的处理工艺，其特征在于，所述处理工艺包括对所述铜磷蒸发料依次进行的第一酸洗、热等静压扩散处理、研磨、第二酸洗、清洗及干燥，得到处理后的铜磷蒸发料；
其中，所述热等静压扩散处理的绝对真空度为0.01-0.1Pa；所述热等静压扩散处理的温度为700-800℃；所述热等静压扩散处理的保温时间为4.5-6h；所述研磨至少进行3次；所述研磨进行第一次的转速为50-100r/min；所述研磨进行第一次的研磨时间为1-10min；所述研磨进行第二次的转速为50-100r/min；所述研磨进行第二次的研磨时间为1-15min；所述研磨进行第三次的转速为100-150r/min；所述研磨进行第三次的研磨时间为1-10min。
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