[发明专利]一种MMG掩模板的制作方法

权利要求书

1.一种MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

制作MMG掩模板的数据，所述数据包括每个显示屏panel的X轴方向像素间隔值及Y轴方向像素间隔值；

分析所述数据中像素间隔值，将所述数据中X轴方向像素间隔值相同或/和Y轴方向像素间隔值相同的panel划分为同一曝光区域；

将同一所述曝光区域内所有panel设计到同一图层，或者设置每个所述曝光区域对应的遮盖图层；

设置每个所述曝光区域的曝光参数，并在所述曝光参数设置后进行格式转换；

投入MMG掩模板原材料，根据转换后的所述曝光参数，按照所述曝光参数，依序对每个同一图层进行曝光，或者遮盖图层以外的曝光区域进行曝光；

依照常规掩模板制作流程进行生产，直至获得MMG掩模板。

2.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述曝光区域的数量为任意多个，且大于1。

3.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述曝光区域中panel的数量为任意多个，且大于等于1。

4.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述将同一所述曝光区域内所有panel设计到同一图层包括：

将同一所述曝光区域设置在对应的一个图层上，以便于每个所述曝光区域对应设置曝光参数。

5.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述设置同一所述曝光区域对应的遮盖图层包括：

将第一曝光区域以外的其他曝光区域设置为第一曝光区域对应的遮盖图层以便于完成单独曝光所述第一曝光区域；

将第二曝光区域以外的其他曝光区域设置为第二曝光区域对应的遮盖图层以便于完成单独曝光所述第二曝光区域；

依照上述方法，逐步完成剩余未曝光的所述曝光区域对应的遮盖图层直至完成全部所述曝光区域的曝光。

6.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述常规掩模板制作流程包括:

对曝光后的制作中MMG掩模板进行显影；

对显影后的制作中MMG掩模板进行刻蚀；

对刻蚀后的制作中MMG掩模板进行测量；

对测量后的制作中MMG掩模板进行检查；

对检查后的制作中MMG掩模板进行修补；

对修补后的制作中MMG掩模板进行贴膜；

对贴膜完成的MMG进行包装并出货。

7.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述曝光工序中顺序可任意设置。

8.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述曝光区域内的panel尺寸可相同或不同。

9.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述panel内像素图像的大小、形状可相同或不同。

10.根据权利要求1所述的MMG掩模板的制作方法，其特征在于，所述掩模板原材料包括MMG掩模板原材料或普通掩模板原材料。