[发明专利]焊线工具及其形成方法在审
申请号: | 202010731718.3 | 申请日: | 2020-07-27 |
公开(公告)号: | CN113764295A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | J·W·布伦纳;R·希拉克;T·J·沃克 | 申请(专利权)人: | 库利克和索夫工业公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;B21F15/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李隆涛 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工具 及其 形成 方法 | ||
提供一种焊线工具,所述焊线工具包括配置成接收线的本体部分。本体部分包括具有作业面的末端部分。作业面限定有多个凹部,所述多个凹部成多组凹部布置,每组凹部成圆形图案布置,所述多组凹部相对于彼此同心地布置。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年6月4日递交的美国临时专利申请号63/034,573的权益,所述美国临时专利申请的内容以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及在焊线系统中使用的焊接工具,且更具体地,涉及改进的、焊接工具的末端部分。
背景技术
在半导体器件的处理和封装中,打线/焊线(wire bonding)继续成为在封装内的两个位置之间(比如,在半导体管芯的管芯焊盘与引线框的引线之间)提供电互连的主要方法。为了形成提供该互连的线回路(wire loop),焊接工具(比如,毛细管工具)被使用。典型的毛细管工具由非传导性(例如陶瓷)材料制成,比如由氧化铝、氧化锆增韧的氧化铝以及红宝石等等其它(非传导性材料)制成。焊接工具也可由其它类型的材料制成,比如由例如导电材料以及电耗散性材料(electrically dissipative material)制成。
示例性的使用球形焊接的常规焊线顺序包括:(1)利用焊接工具在第一位置(比如,半导体管芯的管芯焊盘)处形成球形焊接部;(2)在第一位置与第二位置(比如诸如引线框的引线的第二位置)之间以期望的形状延伸一段长度的线;(3)将所述线针脚式焊接到第二位置以形成第二焊接部;以及(4)截断所述线。
以下美国专利文档中的每篇均涉及用于焊线机的焊接工具的领域:题为“BondingTool With Improved Finish”的美国专利申请公开号2008/0314963;题为“Low-ProfileCapillary For Wire Bonding”的美国专利号7,500,591;题为“Multi-Part Capillary”的美国专利号7,500,590;题为“Capillary with Contained Inner Chamfer”的美国专利号7,004,369;题为“Bonding Tool With Polymer Coating”的美国专利号6,729,527;题为“Ultra Fine Pitch Capillary”的美国专利号6,715,658;题为“Controlled AttenuationCapillary”的美国专利号6,523,733;题为“Wire Bonding Capillary With A ConicalSurface”的美国专利号6,073,827;题为“Long Life Bonding Tool”的美国专利号5,931,368;题为“Fine Pitch Bonding Tool for Constrained Bonding”的美国专利号5,871,141;以及题为“Fine Pitch Capillary Bonding Tool”的美国专利号5,421,503,并且每篇的内容以引用的方式并入。
常规的球形焊接工具通常具有抛光的或光滑的陶瓷表面。该抛光的或光滑的表面包括在焊接工具的末端部分处的作业面。在某些应用中,可在焊接工具的末端表面处提供替代的精加工。例如,参见题为“Bonding Tool With Improved Finish”的美国专利申请公开号2008/0314963。
再有,在毛细管的作业面处具有其它的粗糙表面的焊线工具是已知的,比如刮划式表面、热蚀刻表面、激光加工表面等等。在焊线行业中,存在对于这样的开发的持续压力,所述开发提供诸如提升的焊线强度(如第一焊接部强度、第二焊接部强度等)、降低的对于焊接操作的协助率、降低的在各线回路之间的可变性、增加的焊接工具寿命等的改善结果。
对于特定的应用和市场需要特定的开发。一个示例应用/市场涉及LED(发光二极管)市场和与该应用/市场有关的焊线。
因此,将会期望的是,提供改进的焊线工具。
发明内容
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造