[发明专利]激光光源和包括该激光光源的激光晶化设备

权利要求书

1.一种激光光源，所述激光光源包括：

气密容器；以及

第一共振镜和第二共振镜，在所述气密容器外部，

其中，所述第一共振镜包括透镜单元和反射涂层，

所述透镜单元包括第一表面和第二表面，并且

所述第一表面相对于所述第二表面倾斜。

2.根据权利要求1所述的激光光源，其中，

所述第一表面设置在所述气密容器与所述第二表面之间，

所述第二共振镜包括第三表面和第四表面，并且

其中，所述第四表面相对于所述第三表面倾斜或平行于所述第三表面。

3.根据权利要求2所述的激光光源，其中，

所述第一共振镜包括：第一点，与所述第一共振镜的厚度在从所述第一共振镜的所述透镜单元的所述第二表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第二点，与所述第一共振镜的厚度在从所述第一共振镜的所述透镜单元的所述第二表面垂直延伸的所述方向上最薄的部分对应；以及第一轴线，穿过所述第一点和所述第二点，并且

其中，所述第二共振镜包括：第三点，与所述第二共振镜的厚度在从所述第二共振镜的所述第三表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第四点，与所述第二共振镜的厚度在从所述第二共振镜的所述第三表面垂直延伸的所述方向上最薄的部分对应；以及第二轴线，穿过所述第三点和所述第四点，并且

其中，所述第一轴线与所述第二轴线之间的角度为80°至100°。

4.一种激光晶化设备，所述激光晶化设备包括：

激光光源，用于产生激光；以及

载物台，安装有基底，

其中，所述激光光源包括：气密容器；第一共振镜，在所述气密容器外部；以及第二共振镜，在所述气密容器外部，

其中，所述第一共振镜包括透镜单元和反射涂层，

其中，所述透镜单元包括彼此面对的第一表面和第二表面，并且

其中，所述第一表面相对于所述第二表面倾斜。

5.根据权利要求4所述的激光晶化设备，其中，

所述第二共振镜包括彼此面对的第三表面和第四表面，并且

其中，所述第四表面相对于所述第三表面倾斜。

6.根据权利要求5所述的激光晶化设备，其中，

所述第一共振镜包括：第一点，与所述第一共振镜的厚度在从所述第一共振镜的所述透镜单元的所述第二表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第二点，与所述第一共振镜的厚度在从所述第一共振镜的所述透镜单元的所述第二表面垂直延伸的所述方向上最薄的部分对应；以及第一轴线，穿过所述第一点和所述第二点，并且

其中，所述第二共振镜包括：第三点，与所述第二共振镜的厚度在从所述第二共振镜的所述第三表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第四点，与所述第二共振镜的厚度在从所述第二共振镜的所述第三表面垂直延伸的所述方向上最薄的部分对应；以及第二轴线，穿过所述第三点和所述第四点，并且

所述第一轴线与所述第二轴线之间的角度为80°至100°。

7.根据权利要求6所述的激光晶化设备，所述激光晶化设备还包括：

第一分束器，反射从所述激光光源输出的所述激光的第一部分并且透射从所述激光光源输出的所述激光的第二部分；

第二分束器，用于反射所述激光的穿过所述第一分束器的第三部分，并且透射所述激光的第四部分；

激光强度感测单元，测量所述激光的从所述第一分束器反射的所述第一部分的脉冲强度；

第一监测单元，用于拍摄所述激光的从所述第二分束器反射的所述第三部分的聚焦图像；

第二监测单元，用于拍摄所述激光的照射所述基底的第五部分；以及

控制器，用于调节所述第一共振镜的所述第一轴线与所述第二共振镜的所述第二轴线之间的角度。