[发明专利]激光光源和包括该激光光源的激光晶化设备

说明书

提供了一种激光光源和包括该激光光源的激光晶化设备。激光光源包括气密容器。第一共振镜和第二共振镜设置在气密容器外部。第一共振镜包括透镜单元和反射涂层。透镜单元包括第一表面和第二表面，并且第一表面相对于第二表面倾斜。

本申请要求于2019年8月26日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0104692号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明涉及一种激光光源和一种包括该激光光源的激光晶化设备。

背景技术

包括半导体层的薄膜晶体管(TFT)设置在诸如有机发光装置(OLED)或液晶显示器(LCD)的有源驱动显示装置的像素中。半导体层可以由多晶硅形成。

多晶硅可以通过用激光照射非晶硅并对非晶硅进行退火来形成。在该工艺中使用激光晶化设备。激光晶化设备可以是气体激光设备(例如，准分子激光设备)。激光晶化设备通过放电通过激发介质气体来产生激光，通过共振使激光放大，然后输出激光。

激光晶化设备的激光在照射非晶硅时沿着预定的线路行进，并且最终可能以时间差来照射非晶硅的区域。如果激光晶化设备的激光的能量是不均匀的，则非晶硅的晶化的程度对于每个区域是不同的，使得TFT或显示器件的性能劣化，或者条纹对于用户是可见的。

发明内容

根据本发明的示例性实施例，提供了一种包括气密容器的激光光源。第一共振镜和第二共振镜设置在气密容器外部。第一共振镜包括透镜单元和反射涂层。透镜单元包括第一表面和第二表面，并且第一表面相对于第二表面倾斜。

根据本发明的示例性实施例，第一表面设置在气密容器与第二表面之间。

根据本发明的示例性实施例，第二共振镜包括第三表面和第四表面，并且第四表面相对于第三表面倾斜或平行于第三表面。

根据本发明的示例性实施例，第一共振镜包括：第一点，与其中第一共振镜的厚度在从第一共振镜的透镜单元的第二表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第二点，与其中第一共振镜的厚度在从第一共振镜的透镜单元的第二表面垂直延伸的方向上最薄的部分对应；以及第一轴线，穿过第一点和第二点。第二共振镜包括：第三点，与其中第二共振镜的厚度在从第二共振镜的第三表面垂直延伸的方向上最厚的部分对应；第四点，与第二共振镜的厚度在从第二共振镜的第三表面垂直延伸的方向上最薄的部分对应；以及第二轴线，穿过第三点和第四点。第一轴线与第二轴线之间的角度为80°至100°。

根据本发明的示例性实施例，反射涂层设置在第一共振镜的透镜单元的第二表面上。

根据本发明的示例性实施例，反射涂层设置在透镜单元内部且在第一共振镜的透镜单元的第一表面与第二表面之间。

根据本发明的示例性实施例，反射涂层设置在第一共振镜的透镜单元的第一表面上。

根据本发明的示例性实施例，第二共振镜的第三表面设置在第二共振镜的第四表面与气密容器之间。

根据本发明的示例性实施例，第二共振镜包括彼此面对的第三表面和第四表面，并且第三表面和第四表面彼此平行。

根据本发明的示例性实施例，第一共振镜的透镜单元的第一表面是螺旋形的。

根据本发明的示例性实施例，第一共振镜的透镜单元的第一表面包括彼此不平行的多个倾斜表面。

根据本发明的示例性实施例，提供了一种包括用于产生激光的激光光源的激光晶化设备。载物台安装有基底。激光光源包括：气密容器；第一共振镜，设置在气密容器外部；以及第二共振镜，设置在气密容器外部。第一共振镜包括透镜单元和反射涂层。透镜单元包括彼此面对的第一表面和第二表面，并且第一表面相对于第二表面倾斜。