[发明专利]适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备

说明书

本发明公开了一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。本发明适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，可以提高扩散器的吹扫工作效率，并可以提高安全性和稳定性。

技术领域

本发明属于CVD设备技术领域，具体地说，本发明涉及一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备。

背景技术

CVD(Chemical Vapor Deposition)成膜工艺是整个IC产业和面板产业的基础，直接决定半导体器件的性能和可靠性。在高温下，将腔体抽至真空状态(1torr)时，通入制程气体，将高频电源加在上电极板DIFF形成电场，形成等离子(整体呈电中性)，下部电极及加热基座(又名Susceptor)提供温度，等离子体通过吸附结合作用，在玻璃基板上形成薄膜。沉积在玻璃上的膜质是工艺重点管控的项目，影响因素居多，主要困扰膜的致密性及组分的是参数是基板温度和气体流量及分布。体流量及分布浓度是由DIFF来调控的。

在化学汽相沉积装置中，特别是扩散器(Diffuser)，具有将气体均匀扩散在玻璃面板上的扩散作用，同时还起到等离子体电极作用。扩散器的外形基本像板状长方体(长宽比1.1左右)，上面均匀分布大量的孔结构，类似于蜂槽结构。以宽度方向中心为基准面，两侧具有同心锥形孔，整个结构表面上沉积有阳极氧化膜，在CVD镀膜工序中，等离子气氛苛刻，阳极膜可以有效的抵御环境对基体的刻蚀和腐蚀，避免电荷放电现象等。

目前，国内外有多家企业在对传统面板的CVD装置的扩散器进行再生，扩散器在阳极再生做完后，还需要进行高压清洗、吹干、烘干等后道工序。其中清洗完之后的吹干，目前大多数工厂是人工手动吹扫，工作人员必须集中注意力，手持气枪与扩散器保持一定距离(15-20mm)对准蜂槽孔进行吹扫。由于离扩散器较近，气枪有反作用力，工作人员容易疲劳，而且大概率会造成扩散器的刮伤，同时生产效率不高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提供一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，目的是提高扩散器的吹扫工作效率。

为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。

所述位置调节装置包括用于带动所述喷嘴沿Z轴方向进行移动的Z轴执行机构、与Z轴执行机构连接且用于带动Z轴执行机构沿Y轴方向进行移动的Y轴执行机构和与Y轴执行机构连接且用于带动Y轴执行机构沿X轴方向进行移动的X轴执行机构，喷嘴设置于Z轴执行机构上，X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。

所述X轴执行机构包括X轴执行器、X轴滑轨、与所述Y轴执行机构连接且设置于X轴滑轨上的X轴齿条和与X轴执行器连接且与X轴齿条相啮合的X轴齿轮，X轴齿条的长度方向与X轴方向相平行。

所述Y轴执行机构包括与所述X轴齿条连接的Y轴滑轨、Y轴执行器、与所述Z轴执行机构连接且设置于Y轴滑轨上的Y轴齿条和与Y轴执行器连接且与Y轴齿条相啮合的Y轴齿轮，Y轴齿条的长度方向与Y轴方向相平行。

所述Y轴方向为竖直方向，所述Y轴执行器为伺服电机且Y轴执行器具有自锁功能。

所述位置调节装置还包括X轴负限位块、X轴正限位块和X轴零位感应开关，X轴负限位块、X轴正限位块和X轴零位感应开关处于与X轴方向相平行的同一直线上，所述Y轴滑轨位于X轴负限位块和X轴零位感应开关之间。

所述位置调节装置Y轴负限位块、Y轴正限位块和Y轴零位感应开关，Y轴负限位块、Y轴正限位块和Y轴零位感应开关处于与Y轴方向相平行的同一直线上，所述X轴滑轨位于Y轴负限位块和Y轴零位感应开关之间。