[发明专利]一种膜层厚度检测方法

说明书

本发明涉及金属零件经表面处理氧化(镀)后检测膜(镀)层厚度的试样制备，具体为一种膜层厚度检测方法。用塑料膜将需要研磨、抛光的试样横断面缠绕包裹，将包裹的试样装入夹持装置，调整试样位置至试样待抛光表面与夹持装置底面在同一平面，固定并紧固夹持装置后，再进行研磨、抛光至试样横断面为镜面，显微镜下观察、测量膜层厚度。本发明为防止试样制备不当导致检测结果错误而提出的快速、高效制备技术。按照该方法制备的试样，有效地避免了试样制作过程造成的膜(镀)层损伤，可以准确检测厚度。

技术领域

本发明涉及金属零件经表面处理氧化(镀)后检测膜(镀)层厚度的试样制备，具体为一种膜层厚度检测方法。

背景技术

测量膜(镀)层厚度试样的处理，必须保证显微镜下观察到的膜(镀)层真实、连续、完整，因此试样的制作是准确测量膜(镀)层厚度的关键。按GB/T6462膜(镀)层检测的试样在制作前通常进行以下两种预处理：①冷、热镶嵌，②附加镀层—在膜(镀)层外覆镀一层更容易分辨的保护镀层(例如金镀层)后再冷(热)镶嵌。镶嵌的目的是增加试样打磨面与打磨抛光装置的接触面，最大限度保证试样抛光面为同一水平面，同时保护检测的膜(镀)层不损伤。但是镶嵌材料为高分子材料，其硬度和耐磨性都较金属零件低，经镶嵌试样在打磨、抛光过程中容易导致与金相试样结合部位的镶嵌物质较试样先磨损，同时膜(镀)层也严重损伤至无膜(镀)层，其表现为试样突出于镶嵌物之上(触摸有凸台感)，导致观察检测膜(镀)层为零的错误结论。

发明内容

针对现有金属膜(镀)层试样在打磨抛光过程中，容易造成试样覆盖的膜(镀)层横断面与边缘不完全平整或边缘倒角，难以准确观察检测到完整的膜(镀)层厚度，本发明提供了一种操作简单、快速、高效的试样制备方法。按照该方法制备的试样，有效地避免了试样制作过程造成的膜(镀)层损伤，可以准确检测厚度。

技术方案

为了解决上述试样制备中容易发生的错误情况，本发明提供如下技术方案：

一种膜层厚度检测方法，用塑料膜将需要研磨、抛光的试样横断面缠绕包裹，将包裹的试样装入夹持装置，调整试样位置至试样待抛光表面与夹持装置底面在同一平面，固定并紧固夹持装置后，再进行研磨、抛光至试样横断面为镜面，显微镜下观察、测量膜层厚度。

当横断面的膜层与基体无法辨识，选用GB/T6462中的浸蚀剂对横断面浸蚀。

还包括浸蚀后在两种金属的截面上产生细而清晰的界线时，再于显微镜下观察、测量膜层厚度。

所述浸蚀剂为硝酸酒精溶液。

所述试样为随零件同槽处理的长条状。

所述塑料膜为电工绝缘胶带。

所述夹持装置材料为金属。

所述研磨、抛光过程按照金相试样的制样程序进行。

具体细节：

(1)试样的研磨，手工细磨时，不管砂纸粗细，试样磨过之后，砂纸上留下的整个痕迹颜色深浅要一致，宽度和试样磨面大小相同，不要有弧痕的痕迹出现，保证整个磨面的平整，减少试样倒棱现象；

(2)试样的抛光时间为3-5min；

(3)侵蚀时间的选择，试样侵蚀的时间长短和材料、处理状态、侵蚀剂的新旧程度有关。

试样横断面缠绕包裹将要粘贴的物件固定好，一边粘一边转动胶带轴，小距离的慢慢打开胶带，确保胶带打开处平直不可倾斜，直到转动粘贴到所需要长度位置后剪断胶带。

技术效果

本发明涉及金属零件经表面处理氧化(镀)后检测膜(镀)层厚度的试样制备，为防止试样制备不当导致检测结果错误而提出的快速、高效制备技术。