[发明专利]氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法有效

专利信息
申请号: 202010761593.9 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111929990B 公开(公告)日: 2023-02-07
发明(设计)人: 金成昱;金帅炯;梁贤石;贺晓彬;杨涛;李俊峰;王文武 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 刘广达
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 氢离子 捕捉 硫酸铵 系统 光刻 方法
【权利要求书】:

1.一种氢离子捕捉器,其特征在于,包括:

壳体;

设置在所述壳体内的电解质容器、水合凝胶层、电极、供电模块和水收集器;

所述水合凝胶层设置在所述电解质容器的外壁上;

所述电极的一端穿过所述电解质容器插入所述水合凝胶层内,另一端位于所述电解质容器内并与所述供电模块相连接;

所述水收集器嵌入在所述电解质容器的壁中,其两端分别位于所述电解质容器的内部和外部;

所述氢离子捕捉器还包括用于向所述壳体内输入空气的进气管,所述进气管的一端与所述壳体相连通。

2.根据权利要求1所述的氢离子捕捉器,其特征在于,所述氢离子捕捉器还包括排水管,所述排水管的一端位于所述电解质容器内并与所述水收集器相连接,另一端伸出到所述壳体外部。

3.根据权利要求1所述的氢离子捕捉器,其特征在于,所述氢离子捕捉器还包括用于排出氨的出气管,所述出气管的一端与所述壳体相连通。

4.一种掩模版的防硫酸铵系统,其特征在于,包括:

薄膜,设置于所述掩模版的掩模底面上,与所述掩模底面围成一密闭空间,所述密闭空间包围所述掩模版的胶片;

权利要求1-3中任一项所述的氢离子捕捉器,通过输入管和输出管分别与所述密闭空间的两侧相连通,所述输出管用于将所述氢离子捕捉器中过滤氢离子后的空气输入所述密闭空间内,所述输入管用于将所述密闭空间内的空气输入到所述氢离子捕捉器内;所述氢离子捕捉器还包括用于排出氨的出气管,所述出气管的一端与所述壳体相连通。

5.根据权利要求4所述的防硫酸铵系统,其特征在于,所述防硫酸铵系统还包括设置在所述薄膜的第一侧的第一过滤器,所述第一过滤器的一端与所述薄膜相连接,另一端通过所述输出管与所述氢离子捕捉器相连接。

6.根据权利要求5所述的防硫酸铵系统,其特征在于,所述防硫酸铵系统还包括设置在所述薄膜的第二侧的第二过滤器,所述第二过滤器的一端与所述薄膜相连接,另一端通过所述输入管与所述氢离子捕捉器相连接。

7.一种光刻系统,其特征在于,包括:

透镜系统;

设置于透镜系统上方的光源;

设置于所述透镜系统内的掩模版;

薄膜,设置于所述掩模版的底面上,与所述掩模版围成密闭空间;

权利要求1-3中任一项所述的氢离子捕捉器,设置于透镜系统外部,通过输入管和输出管分别与所述密闭空间的两侧相连通,所述输出管用于将所述氢离子捕捉器中过滤氢离子后的空气输入所述密闭空间内,所述输入管用于将所述密闭空间内的空气输入到所述氢离子捕捉器内;所述氢离子捕捉器还包括用于排出氨的出气管,所述出气管的一端与所述壳体相连通;

所述掩模版包括掩模和设置于所述掩模底面上的胶片,所述胶片位于所述薄膜与所述掩模所围成的密闭空间内。

8.一种掩模版的防硫酸铵方法,通过权利要求4-6任一项所述的掩模版的防硫酸铵系统实现,其特征在于,所述方法包括:

通电的所述电极在所述水合凝胶层中产生负电荷;

向所述氢离子捕捉器中输送空气;

空气中的氢离子被所述负电荷吸引移动到所述水合凝胶层外侧,与氢氧根离子结合形成水;

将去除氢离子的空气输送到所述密闭空间内;

将所述掩模版所产生的氨从所述密闭空间内排出。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在所述通电的所述电极在所述水合凝胶层中产生负电荷之前,所述方法还包括:所述供电模块向所述电极通电。

10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:所述氢离子捕捉器将形成的水排出。

11.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:所述氢离子捕捉器将所述氨排出。

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