[发明专利]采用致密交联离子膜制备12个9以上超纯氢氟酸的方法

权利要求书

1.采用致密交联离子膜制备12个9以上超纯氢氟酸的方法，是采用由式A结构的长链芳烷基双烯含氟磺酸盐化合物聚合制备的致密交联阳离子膜，和式B结构长链烷基含氟双烯季铵盐化合物聚合制备的致密交联阴离子膜；由致密交联阳离子膜和致密交联阴离子膜配置的膜电解装置，在超净无尘室中，纯度99%以上的含水氢氟酸经过远程自动化无人操作的膜电解装置，只有离子尺寸最小的H⁺和F^—在电场驱动下，阳极室H⁺单向渗透通过致密交联阳离子膜，阴极室F^—单向渗透通过致密交联阴离子膜，在超纯产品室膜电解提纯到12个9以上的超纯电子级氢氟酸；

其中：M为K⁺或Na⁺；

其中：R为甲基或乙基。

2.根据权利要求1所述的致密交联阳离子膜聚合制备方法，其主要特征是将式A化合物、甲醇和过氧化二酰基引发剂在-10~10℃混合均匀，涂敷在玻璃基板上，然后在N₂保护下加热到35~45℃自由基聚合，合成离子通道极致最小到≤0.5nm的致密交联阳离子膜。

3.根据权利要求1所述的致密交联阴离子膜聚合制备方法，其主要特征是将式B化合物、甲醇和过氧化二酰基引发剂在-10~10℃混合均匀，涂敷在玻璃基板上，然后在N₂保护下加热到35~45℃自由基聚合，合成离子通道极致最小到≤0.5nm致密交联阴离子膜。

4.根据权利要求1所述的膜电解装置，其主要特征是和氢氟酸接触的壳体材料、管路和阀门等，全部采用可溶性聚四氟乙烯材料。

5.根据权利要求1所述的膜电解装置，其主要特征是单组膜电解装置中，阳极室和超纯产品室之间是式A化合物聚合的致密交联阳离子膜；阴极室和超纯产品室之间是式B化合物聚合的致密交联阴离子膜。

6.根据权利要求1所述的膜电解装置，其主要特征是阳极室和阴极室共用20~50%wt的氢氟酸，阳极电解产生的过氧化氢或氯酸不断氧化三价砷等杂质。

7.根据权利要求2和3所述的过氧化二酰基引发剂，其主要特征是采用式C化学结构的过氧化二酰基叔烷；

其中：R2为甲基或乙基。

8.根据权利要求1所述的膜电解装置，其主要特征是膜电解运行时，阳极室和阴极室物料温度控制在0~20度。