[发明专利]抗菌抑菌釉面砖的制备方法及其纳米抗菌液的制备方法

权利要求书

1.一种抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，包括如下具体步骤：

S1）将烧成出炉冷却降温的釉面砖放置在60-75℃的恒温环境中，对所述釉面砖进行抛光清洁处理，所述釉面砖的釉料含有抗菌剂；

S2）在与步骤S1相同的恒温环境中，在所述釉面砖的釉层表面滴加抗菌A型抛光液，采用施压的磨盘对所述釉面砖进行抛光打蜡，所述抗菌A型抛光液包括纳米抗菌液和超洁亮A型抛光液，所述超洁亮A型抛光液为含有硅树脂的超洁亮抛光液；

S3）抛光打蜡合格，即制得所述的抗菌抑菌釉面砖；

所述步骤S2中，当所述超洁亮A型抛光液的pH值为5-7 时，按照重量份数计算，所述纳米抗菌液的原料成分包括：2-10份磷酸或草酸、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物；当所述超洁亮A型抛光液的pH值为8-10时，按照重量份数计算，所述纳米抗菌液的原料成分包括：0.5-1.5份消泡剂 、30-50份三乙醇胺、10-50份聚季铵盐126、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物。

2.根据权利要求1所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，在步骤S2和步骤S3之间还包括以下步骤：

S2.1）在与步骤S1相同的恒温环境中，在所述釉面砖的釉层表面滴加抗菌D型抛光液，采用施压的磨盘对所述釉面砖进行抛光打蜡，所述抗菌D型抛光液包括纳米抗菌液和超洁亮D型抛光液，所述超洁亮D型抛光液为含有硅油的超洁亮抛光液。

3.根据权利要求2所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中磨盘的施压的压力为0.1-0.5MPa。

4.根据权利要求3所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，所述抗菌A型抛光液和所述抗菌D型抛光液中，含有的所述纳米抗菌液的质量百分比均为2-10%；所述步骤S2和S2.1中所述抗菌A型抛光液和所述抗菌D型抛光液的滴加量均为10-20g/m²。

5.根据权利要求4所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，所述抗菌A型抛光液和所述抗菌D型抛光液中，含有的所述纳米抗菌液的质量百分比均为3-6%。

6.根据权利要求1所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，所述步骤S1的釉料含有的所述抗菌剂为纳米硅酸锆载银和纳米氧化锌的混合物，按照重量百分比计算，所述纳米硅酸锆载银的添加量为釉面砖的釉料的总体重量的0.2-2%，所述纳米氧化锌的添加量为釉面砖的釉料的总体重量的0.1-1%。

7.根据权利要求6所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，其特征在于，所述纳米硅酸锆载银和纳米氧化锌的混合比例为2:1，所述纳米硅酸锆载银和纳米氧化锌的粒径为10-15纳米。

8.一种纳米抗菌液的制备方法，其特征在于，所述纳米抗菌液用于权利要求1-7任一项所述的抗菌抑菌釉面砖的制备方法，包括以下具体步骤：

P1）配制所述纳米抗菌液的原料，当所述超洁亮A型抛光液的pH值为5-7 时，按照重量份数计算，所述纳米抗菌液的原料成分包括：2-10份磷酸或草酸、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物；当所述超洁亮A型抛光液的pH值为8-10时，按照重量份数计算，所述纳米抗菌液的原料成分包括：0.5-1.5份消泡剂 、30-50份三乙醇胺、10-50份聚季铵盐126、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物；

P2）将所述纳米抗菌液的混合物加水化浆投入球磨机球磨，即制得所述的纳米抗菌液。

9.根据权利要求8所述纳米抗菌液的制备方法，其特征在于，步骤P2中的所述球磨机的转速为60-120转/分,所述球磨的时间为1小时。