[发明专利]抗菌抑菌釉面砖的制备方法及其纳米抗菌液的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010764471.5 申请日: 2020-08-03
公开(公告)号: CN111730729B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 钟保民;林锦威;徐瑜;熊勋旺 申请(专利权)人: 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
主分类号: B28B11/08 分类号: B28B11/08;B24B1/00;C04B41/89;C03C8/00
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 代理人: 朱培祺;单蕴倩
地址: 528031 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 抗菌 釉面砖 制备 方法 及其 纳米
【说明书】:

发明公开了一种抗菌抑菌釉面砖的制备方法及其纳米抗菌液的制备方法,包括如下具体步骤:S1)将烧成出炉冷却降温的釉面砖保持在恒温为指定的温度范围内,对所述釉面砖进行抛光防污处理,所述釉面砖的釉料含有抗菌剂;S2)在所述釉面砖的釉层表面滴加纳米抗菌超洁亮A型抛光液,采用施压的磨盘对所述釉面砖进行抛光打蜡,所述抗菌A型抛光液包括纳米抗菌液和超洁亮A型抛光液,所述超洁亮A型抛光液为含有硅树脂的超洁亮抛光液;S3)抛光打蜡合格,即制得所述的抗菌抑菌釉面砖。本发明提出的纳米抗菌液的制备方法,工艺简单有效,制得的所述抗菌抑菌釉面砖,具有良好的抗菌效果,且抗菌性能稳定持久。

技术领域

本发明涉及陶瓷技术领域,尤其涉及一种抗菌抑菌釉面砖的制备方法及其纳米抗菌液的制备方法。

背景技术

陶瓷釉面砖作为最为广泛使用的装饰建材,与人类接触频繁。传统的釉面砖,其釉面具有许多微纳米级的凹坑和缝隙,为细菌提供了藏身和繁殖场所。

抗菌釉面砖的釉层中的抗菌剂的作用机理为接触式抗菌,在釉面砖的生产过程中,釉面通常需要添加超洁亮抛光液进行打磨抛光,釉面增加了超洁亮抛光液的涂层,由于超洁亮抛光液的涂层不含有抗菌物质,超洁亮抛光液的涂层将釉层中的抗菌剂覆盖后,部分的抗菌剂被涂层包裹,釉层中的抗菌剂可以与细菌接触的比例减少,导致抗菌釉面砖的抗菌性能下降。

发明内容

本发明提出一种抗菌抑菌釉面砖的制备方法及其纳米抗菌液的制备方法,制得的所述的抗菌抑菌釉面砖的釉层以及抛光打磨形成的涂层均含有抗菌材料,具有良好的抗菌效果和耐久性。本发明还提出了所述的纳米抗菌液的制备方法,制备方法简单有效。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

一种抗菌抑菌釉面砖的制备方法,包括如下具体步骤:

S1)将烧成出炉冷却降温的釉面砖放置在指定的温度范围内的恒温环境中,对所述釉面砖进行抛光清洁处理,所述釉面砖的釉料含有抗菌剂;

S2)在与步骤S1相同的恒温环境中,在所述釉面砖的釉层表面滴加抗菌A型抛光液,采用施压的磨盘对所述釉面砖进行抛光打蜡,所述抗菌A型抛光液包括纳米抗菌液和超洁亮A型抛光液,所述超洁亮A型抛光液为含有硅树脂的超洁亮抛光液;

S3)抛光打蜡合格,即制得所述的抗菌抑菌釉面砖。

优选的,在步骤S2和步骤S3之间还包括以下步骤:

S2.1)在与步骤S1相同的恒温环境中,在所述釉面砖的釉层表面滴加抗菌D型抛光液,采用施压的磨盘对所述釉面砖进行抛光打蜡,所述抗菌D型抛光液包括纳米抗菌液和超洁亮D型抛光液,所述超洁亮D型抛光液为含有硅油的超洁亮抛光液。

优选的,所述步骤S1中指定的温度范围为60-75℃,所述步骤S2中磨盘的施压的压力为0.1-0.5MPa。

优选的,所述步骤S2中,当所述超洁亮A型抛光液的pH值为5-7 时,按照重量份数计算,所述纳米抗菌液的原料成分包括:2-10份磷酸或草酸、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物;当所述超洁亮A型抛光液的pH值为8-10时,按照重量份数计算,所述纳米抗菌液的原料成分包括:0.5-1.5份消泡剂 、30-50份三乙醇胺、10-50份聚季铵盐126、0.1-1.5份聚丙烯酸钠、0.1-3份三聚磷酸钠、5-40份硅烷偶联剂和10-40份的混合比为2:1的纳米氧化银和纳米氧化锌的混合物。

优选的,所述抗菌A型抛光液和所述抗菌D型抛光液中,含有的所述纳米抗菌液的质量百分比均为2-10%;所述步骤S2和S2.1中所述抗菌A型抛光液和所述抗菌D型抛光液的滴加量均为10-20g/m2

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