[发明专利]光掩模收容装置

说明书

一种光掩模收容装置，包含一上盖、一下盖及一柔性接触部件。该上盖具有一顶部和一覆盖部，该覆盖部围绕该顶部。该下盖具有一承载部和一周围结构，该周围结构围绕该承载部。该柔性接触部件配置成当该上盖和该下盖结合时横向延伸于该覆盖部和该周围结构之间，以及自该装置的一内侧延伸至该装置的一外侧，以缓冲该上盖和该下盖的结合。

技术领域

本发明是关于一种光掩模收容装置，尤其关于一种使用柔性接触的密闭(即密封)光掩模盒。

背景技术

已知的光掩模盒通常包含一外盒和一内盒，其中外盒为光掩模盒的最外层，而内盒收容在外盒内。在某些实施例中，外盒可由一上盖及一下盖组成。相同的，内盒也可由一上盖及一下盖组成，并将一光掩模容置于其中。

EUV(Extreme Ultraviolet)光掩模在微污染控制方面，主要必须仰赖内盒的上下盖结合以防止外部粒子及微尘进入内盒中。已知的内盒上下盖设计利用密封的手段将内盒中的环境与其外部的环境流体隔绝，此阻止内外环境间的气体流动，故可有效杜绝内盒中的光掩模受到污染。当然，如此密封式的内盒设计也有其缺点。例如，一般内盒上盖和下盖是属于金属结构，而当上盖和下盖结合时有可能因为坚硬碰撞而产生微尘，导致内盒所容置的光掩模受到污染。再者，内盒的密封效果取决于上盖和下盖金属接触面的粗糙度，粗糙度的要求必须非常严格才能达到所述密封效果，使制造成本提高。

因此，有必要发展能够解决封闭式内盒设计所存在的上述问题，确保内盒收容的光掩模不受到污染。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光掩模收容装置，包含：一上盖，具有一顶部和一覆盖部，该覆盖部围绕该顶部；一下盖，具有一承载部和一周围结构，该周围结构围绕该承载部，且当上盖和下盖结合时该周围结构面对该覆盖部；及一柔性接触部件，配置成当该上盖和该下盖结合时横向延伸于该覆盖部和该周围结构之间，以及自该装置的一内侧延伸至该装置的一外侧，以缓冲该上盖和该下盖的结合。

在一具体实施例中，该上盖的覆盖部具有一朝下结合面，该柔性接触部件于该朝下结合面延伸并包覆该朝下结合面。

在一具体实施例中，该柔性接触部件具有一朝下密封面，该朝下密封面用于和该下盖的周围结构的一朝上结合面接触。

在一具体实施例中，该柔性接触部件具有一朝下密封面和自该朝下密封面向下延伸的至少一凸出部，至少一该凸出部用于和该下盖的周围结构的一朝上结合面接触。

在一具体实施例中，该上盖的覆盖部具有一朝下结合面，该覆盖部具有自该朝下结合面向下延伸的多个支撑柱，该周围结构具有对应多个该支撑柱的多个容置凹部，各支撑柱具有至少一个弹性结构，以缓冲该上盖和该下盖的结合。

本发明的另一目的在于提供一种光掩模收容装置，包含：一上盖，具有一顶部和一覆盖部，该覆盖部围绕该顶部；一下盖，具有一承载部和一周围结构，该周围结构围绕该承载部，且当上盖和下盖结合时该周围结构面对该覆盖部；一第一柔性接触部件，横向延伸于该上盖的覆盖部的一朝下结合面；及一第二柔性接触部件，横向延伸于该下盖的周围结构的一朝上结合面，其中当该上盖和该下盖结合时，该第一柔性接触部件与该第二柔性接触部件相接触，以缓冲该上盖和该下盖的结合。

在一具体实施例中，该第一柔性接触部件的一内侧与该第二柔性接触部件的一外侧相接触。

在一具体实施例中，该第一柔性接触部件的至少一部分包覆该上盖的覆盖部。

在一具体实施例中，该第一柔性接触部件的硬度大于该第二柔性接触部件的硬度。

在以下本发明的说明书以及借由本发明原理所例示的图式当中，将更详细呈现本发明的这些与其他特色和优点。

附图说明