[发明专利]一种真空镀膜机用的石墨坩埚在审
| 申请号： | 202010767794.X | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111910157A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 陈珂珩 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞康真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/30 |
| 代理公司： | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人： | 毛洪梅 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 石墨 坩埚 | ||
1.一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：包括上盖、坩埚主体；所述坩埚主体上设置有上盖；所述坩埚主体包括坩埚内层、坩埚外层、隔离层、高温气泵；所述坩埚外层的材料为石墨；电子束作用于坩埚外层；所述坩埚外层内设置有坩埚内层；所述坩埚内层为耐高温的金属材料；所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有隔离层，所述隔离层为密闭空腔；隔离层的出口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接。
2.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述隔离层的出口与高温气泵之间的连接管上设置有温度传感器；所述隔离层的入口与高温气泵之间的连接管上设置有加热器。
3.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述上盖上方设置有凸台；所述凸台上设置有蒸发孔、把手；所述蒸发孔贯穿所述上盖。
4.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述上盖下方设置有圆形咬合区；所述圆形咬合区上设置有多个凸起；所述多个凸起以圆形咬合区的圆心为中心环形阵列分布；所述坩埚内层上设置有多个凹槽；所述凹槽与凸起的形状、大小、位置相互对应；所述凸起设置于凹槽内。
5.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有用于密封隔离层的密封圈。
6.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述隔离层内设置有支撑块；所述支撑块一侧连接于所述坩埚内层；所述支撑块另一侧连接于坩埚外层；所述支撑块为绝热材料。
7.根据权利要求1中所述的一种真空镀膜机用的石墨坩埚，其特征在于：所述隔离层内填充为惰性气体。
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