[发明专利]一种真空镀膜机用的石墨坩埚

说明书

一种真空镀膜机用的石墨坩埚，包括上盖、坩埚主体；所述坩埚主体上设置有上盖；所述坩埚主体包括坩埚内层、坩埚外层、隔离层、高温气泵；所述坩埚外层的材料为石墨；电子束作用于坩埚外层；所述坩埚外层内设置有坩埚内层；所述坩埚内层为耐高温的金属材料；所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有隔离层，所述隔离层为密闭空腔；隔离层的出口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接；本发明中利用隔离层避免坩埚外层直接对坩埚内层进行加热，造成坩埚内层受热不均；隔离层的入口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接；通过高温气泵促进隔离层内气体流动，使坩埚内层受热均匀；并且隔离层起到一定的隔热的作用，可以更好控制坩埚内层的温度。

技术领域

本发明涉及坩埚领域，具体涉及一种真空镀膜机用的石墨坩埚。

背景技术

蒸发镀膜技术是指通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，其中有一种加热方式为采用电子束加热源进行加热，当采用电子束加热源进行加热时，可以使得加热的温度达到1000℃～3000℃，使得金属蒸发镀膜材料能够充分蒸发并沉积在待镀膜的材料的表面，故采用电子束加热的方式目前已经普及。

随着蒸发镀膜技术的发展，在真空条件下进行蒸发镀膜技术已经成熟，但是基本上都是只能针对挥发温度较高的材料，针对挥发温度较低的有机物，则很难通过电子束加热的方式采用真空蒸发镀膜技术实现，原因在于基本上有机物的挥发温度相对都比较低，基本在 400℃～800℃之间，远远低于电子束的加热温度，这样就会使得有机物可能在高温的情况下发生分解，而这些并不是我们乐于见到的现象。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供了一种真空镀膜机用的石墨坩埚，保证在整个有机物进行真空蒸发镀膜的过程中有机物不会发生分解。

本发明提供如下技术方案：

一种真空镀膜机用的石墨坩埚，包括上盖、坩埚主体；所述坩埚主体上设置有上盖；所述坩埚主体包括坩埚内层、坩埚外层、隔离层、高温气泵；所述坩埚外层的材料为石墨；电子束作用于坩埚外层；所述坩埚外层内设置有坩埚内层；所述坩埚内层为耐高温的金属材料；所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有隔离层，所述隔离层为密闭空腔；隔离层的出口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接。

优选的，所述隔离层的出口与高温气泵之间的连接管上设置有温度传感器；所述隔离层的入口与高温气泵之间的连接管上设置有加热器。

优选的，所述上盖上方设置有凸台；所述凸台上设置有蒸发孔、把手；所述蒸发孔贯穿所述上盖。

优选的，所述上盖下方设置有圆形咬合区；所述圆形咬合区上设置有多个凸起；所述多个凸起以圆形咬合区的圆心为中心环形阵列分布；所述坩埚内层上设置有多个凹槽；所述凹槽与凸起的形状、大小、位置相互对应；所述凸起设置于凹槽内。

优选的，所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有用于密封隔离层的密封圈。

优选的，所述隔离层内设置有支撑块；所述支撑块一侧连接于所述坩埚内层；所述支撑块另一侧连接于坩埚外层；所述支撑块为绝热材料。

优选的，所述隔离层内填充为惰性气体。

与现有技术相比，本发明具有以下优点和效果：

本发明中石墨坩埚可以应用于现有的采用电子束加热的真空蒸发镀膜机中，取代常规的坩埚，这样，高能量的电子束不会直接打在蒸发镀膜材料的表面，而是打在本发明的新型石墨坩埚的表面，而石墨具有降温作用，这样会对坩埚内的有机物蒸发镀膜材料进行保护，使得有机物蒸发镀膜材料能够在低于电子束加热温度的情况下就开始蒸发，并沉积在待镀膜的工件表面，保证在整个有机物进行真空蒸发镀膜的过程中有机物不会发生分解。