[发明专利]一种真空吸附装置及系统有效

专利信息
申请号: 202010771436.6 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN112110323B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 邓桂雄;刘震;张衡;赵剑;陈焱;高云峰 申请(专利权)人: 大族激光科技产业集团股份有限公司;大族激光智能装备集团有限公司
主分类号: B66C1/02 分类号: B66C1/02;F16B47/00
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 王海滨
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸附 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种真空吸附装置,用于吸附板材,其特征在于,包括安装板(1)、真空吸盘组件、真空发生组件(3)以及连接杆(5),所述安装板(1)固定在所述连接杆(5)顶部,所述真空吸盘组件固定在所述连接杆(5)底端;

所述真空吸盘组件包括真空吸附块(20)和多孔介质块(21),所述真空吸附块(20)的底部设置有正压腔(211)和负压腔(212),所述正压腔(211)和所述负压腔(212)在所述真空吸附块(20)的底面开口,所述负压腔(212)连通所述真空发生组件(3)形成负压环境,以用于产生吸附力,所述多孔介质块(21)贴设在所述真空吸附块(20)底面对应所述正压腔(211)的位置,所述多孔介质块(21)密封所述正压腔(211)的开口,所述正压腔(211)内接入正压气体形成正压环境,所述正压气体通过所述多孔介质块(21)内部的孔隙向外渗透从而在所述板材和所述真空吸盘组件之间形成一层气膜,以用于使所述板材与所述真空吸盘组件处于非接触的平衡状态。

2.如权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述负压腔(212)位于所述真空吸附块(20)的中央位置,所述正压腔(211)沿周向设置在所述负压腔(212)周围。

3.如权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空发生组件(3)为真空发生器,所述真空发生器安装在所述安装板(1)上,所述真空吸附块(20)的侧壁开设有负压进气孔(214),所述负压腔(212)通过所述负压进气孔(214)与所述真空发生器连通从而形成负压环境。

4.如权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附块(20)的侧壁还开设有第一正压进气孔(213),所述正压腔(211)通过所述第一正压进气孔(213)连通正压装置,所述正压装置往所述第一正压进气孔(213)内通入正压气体。

5.如权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附装置还包括固定件(4),所述固定件(4)为中空的环状结构,所述固定件(4)套设在所述连接杆(5)上且所述固定件(4)的底面抵接所述真空吸附块(20)的顶面,所述固定件(4)和所述真空吸附块(20)之间通过螺栓连接。

6.如权利要求4所述的真空吸附装置,其特征在于,所述连接杆(5)的底部连接有万向球头(51),所述万向球头(51)与所述真空吸附块(20)连接,所述真空吸附块(20)对应所述万向球头(51)设置有与所述万向球头(51)适配的凹槽,所述凹槽与所述万向球头(51)之间夹设有多孔介质层(6),所述多孔介质层(6)通过所述真空吸附块(20)内开设的正压进气通道(216)与所述正压装置连通。

7.如权利要求6所述的真空吸附装置,其特征在于,所述多孔介质层(6)为与所述万向球头(51)适配的球面结构。

8.如权利要求6所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附块(20)的侧壁开设有与所述正压进气通道(216)连通的第二正压进气孔(215),所述正压装置往所述第二正压进气孔(215)内通入正压气体。

9.如权利要求6所述的真空吸附装置,其特征在于,所述多孔介质块(21) 和所述多孔介质层(6)的材质为石墨。

10.一种真空吸附系统,其特征在于,包括如权利要求1至9中任一项所述的真空吸附装置。

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