[发明专利]一种实现多功能复合透明导电薄膜的方法及应用在审

专利信息
申请号: 202010773063.6 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN112071503A 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 陈新亮;李跃龙;刘璋;侯国付;赵颖;张晓丹 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00
代理公司: 天津耀达律师事务所 12223 代理人: 张耀
地址: 300350 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 多功能 复合 透明 导电 薄膜 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种实现多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:利用真空镀膜技术生长氧化物薄膜,而磁控溅射技术生长超薄金属薄膜,并通过有机聚合物PS微球模板技术辅助或光刻技术构建金属网格结构,从而实现多功能复合薄膜Glass/Oxide-B/Metal-Mesh/Oxide-T,其中金属(Metal)层为网格(Mesh)结构。

2.根据权利要求1所述的多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:所述的真空镀膜技术包括且不限于反应等离子沉积RPD技术、磁控溅射技术、热蒸发技术、原子层沉积ALD技术。

3.根据权利要求1所述的多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:通过PS微球模板技术辅助或光刻技术构建金属网格结构,多功能复合薄膜Glass/Oxide-B/Metal-Mesh/Oxide-T,其中金属(Metal)层为网格(Mesh)结构。

4.根据权利要求1所述的多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:金属网格层材料设计为Au、Ag、Cu或Al,特征尺寸范围为0.5-30μm。

5.根据权利要求1所述的多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:底氧化物层(Oxide-B)设计为ZnO、TiOx、SnOx、In2O3、Cd2SnO4、Ga2O3、MoOx、NiOx、WO3、TaOx、V2Ox或Cu2O薄膜,氧化层厚度~5-100nm。

6.根据权利要求1所述的多功能复合透明导电薄膜的方法,其特征是:顶氧化物层(Oxide-T)设计为ZnO、TiOx、SnOx、In2O3、Cd2SnO4、Ga2O3、MoOx、NiOx、WO3、TaOx、V2Ox、Cu2O薄膜,氧化层厚度~5-100nm。

7.权利要求1-6任一项方法所得多功能复合透明导电薄膜的应用,其特征是:将多功能复合薄膜Glass/Oxide-B/Metal-Mesh/Oxide-T应用于薄膜太阳电池。

8.权利要求1-6任一项方法所得多功能复合透明导电薄膜的应用,其特征是:将多功能复合薄膜Glass/Oxide-B/Metal-Mesh/Oxide-T应用于晶硅异质结太阳电池。

9.权利要求1-6任一项方法所得多功能复合透明导电薄膜的应用,其特征是:将多功能复合薄膜Glass/Oxide-B/Metal-Mesh/Oxide-T应用于发光二极管和光电探测器。

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