[发明专利]一种纳米片状氧化亚硅及其复合负极材料

权利要求书

1.一种纳米片状氧化亚硅的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

（1）以Si和SiO₂为原料，采用气相沉积法制备得到氧化亚硅块体；

（2）氧化亚硅块体采用万能粉碎机进行破碎；

（3）采用液相高能球磨法进行处理，球磨介质为无水乙醇，球磨转速为200-500 rpm，球磨时间为6-56 h；

所述纳米片状氧化亚硅的化学式为SiO_x，其中0.9x1.1；并且具有纳米片状颗粒形貌；所述纳米片状氧化亚硅由激光粒度仪测试的中位粒径D50为100-1000nm，最大颗粒直径D99.9＜1000nm；且最小颗粒直径D0.1＞10 nm；所述纳米片状氧化亚硅由氮吸附测试的比表面积为50-150 m²/g；所述纳米片状氧化亚硅的颗粒平面方向的平均直径为100-1000nm，颗粒厚度为10-50nm，并且颗粒平面方向的平均直径与颗粒厚度的比值大于5。

2.根据权利要求1所述的纳米片状氧化亚硅的制备方法，其特征在于，所述纳米片状氧化亚硅由激光粒度仪测试的中位粒径D50为200-400nm。

3.根据权利要求1所述的纳米片状氧化亚硅的制备方法，其特征在于，所述纳米片状氧化亚硅由氮吸附测试的比表面积为90-110 m²/g。

4.一种复合负极材料，其特征在于，包含权利要求1-3中任一项制备得到的纳米片状氧化亚硅及添加剂，其中纳米片状氧化亚硅的质量分数为5%-50%。

5.根据权利要求4所述的复合负极材料，其特征在于，所述添加剂为石墨、无定型碳、二氧化硅、二氧化钛、氧化铝中的一种或多种。