[发明专利]一种63 在审
申请号: | 202010781388.9 | 申请日: | 2020-08-06 |
公开(公告)号: | CN111962106A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 高岩;刘明阳;王念;崔洪起;任春侠;谭小明;王安达;付轲新 | 申请(专利权)人: | 原子高科股份有限公司 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 陆薇薇 |
地址: | 102413 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 base sup 63 | ||
1.一种63Ni放射源的制备方法,其特征在于,该方法包括将衬底表面清洗干净之后置于电镀液中进行电镀,以在衬底上形成63Ni放射源层,所述电镀液中含有63NiCl2、三氯化铈、pH值缓冲剂和导电盐且余量为水。
2.根据权利要求1所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述电镀液中63NiCl2的浓度为0.5g/L~4g/L,三氯化铈的浓度为0.5g/L~1g/L,pH值缓冲剂的浓度为20g/L~50g/L,导电盐的浓度为10g/L~40g/L。
3.根据权利要求1所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述63NiCl2以63NiCl2料液的形式使用,所述63NiCl2料液为63NiCl2的盐酸溶液。
4.根据权利要求1所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述pH值缓冲剂为H3BO3。
5.根据权利要求1所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述导电盐为KCl和/或NaCl。
6.根据权利要求1~5中任意一项所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述电镀的条件包括电镀液温度为20℃以上,63NiCl2料液活度为600~1000mCi,电镀液的pH值为1.5~2,电镀液体积为40~60mL,电流为150~200mA,电极间距为1~2cm,电镀时间为2~5min。
7.根据权利要求1~5中任意一项所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述电镀以衬底作为阴极,以白金电极作为阳极。
8.根据权利要求1~5中任意一项所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述衬底表面的清洗方式为将衬底在丙酮中超声清洗1~10分钟,取出放入清水中清洗1~5次,再放入70~90℃的稀盐酸中清洗10~30秒,取出放入蒸馏水中清洗1~5次,之后采用滤纸和/或脱脂棉将衬底表面多余水分擦干,不能留有水印。
9.根据权利要求1~5中任意一项所述的63Ni放射源的制备方法,其特征在于,所述衬底的形状为方形和/或圆形;当衬底为方形时,其长与宽各自独立地为5~40mm;当衬底为圆形时,其直径为5~40mm;所述衬底为镍片或者不锈钢片。
10.由权利要求1~9中任意一项所述的方法制备得到的63Ni放射源。
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