[发明专利]一种63

说明书

本发明属于放射源制备技术领域，涉及一种⁶³Ni放射源及其制备方法。所述⁶³Ni放射源的制备方法包括将衬底表面清洗干净之后置于电镀液中进行电镀，以在衬底上形成⁶³Ni放射源层，所述电镀液中含有⁶³NiCl₂、三氯化铈、pH值缓冲剂和导电盐且余量为水。采用本发明提供的方法制备⁶³Ni放射源，不仅能够提高衬底与放射源层的结合度，改善放射源层的稳定性，而且还具有很好的重复性，能够降低工业生产过程中的操作难度，易于批量生产，满足社会对⁶³Ni纯β放射源的需求。

技术领域

本发明属于放射源制备技术领域，涉及一种⁶³Ni放射源及其制备方法。

背景技术

⁶³Ni(镍-63)放射源是将高纯度的⁶³Ni均匀固定在金属衬底上，形成致密、均匀的纯β放射源。⁶³Ni放射源是目前世界上应用最广泛的低能β放射源之一，其具有重要而广阔的应用前景，特别是目前新能源核电池开发应用、气相色谱分析和液相色谱分析电子俘获探测器、海关用爆炸物质谱探测器和高灵敏的泄漏探测器等多个应用领域迫切需要⁶³Ni放射源。

目前⁶³Ni放射源主要采用以硫酸镍或者氯化镍为主体的电沉积液电沉积得到。例如，CN108893762A公开了一种⁶³Ni放射源的制备方法，其采用以硫酸镍为主体的电镀液，通过配制电沉积液、预处理不锈钢衬底、电沉积三个步骤制得。然而，虽然采用该方法所得⁶³Ni放射源均匀致密且具有金属光泽，但是电沉积之前需要预电沉积，并且电沉积时间比较久，增加了操作成本，电镀液中⁶³Ni浓度也比较大，增大了实验人员受辐射的风险，不利于工业上对该放射源进行生产。国内中国原子能科学研究院同位素研究所主要采用氯化镍为主体的电沉积液制备⁶³Ni放射源，该方法虽然能够成功制备，但是镍层与衬底的结合度较低，镀层稳定性差，且制备方法重复性不高，不能大规模地应用于实际生产中。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术采用氯化镍为主体的电镀液制备⁶³Ni放射源时存在衬底与⁶³Ni放射源层结合度低、⁶³Ni放射源层稳定性差且重复性不高的缺陷，而提供一种采用氯化镍为主体的电镀液制备⁶³Ni放射源的方法以及由该方法制备得到的⁶³Ni放射源。

具体地，本发明提供了一种⁶³Ni放射源的制备方法，该方法包括将衬底表面清洗干净之后置于电镀液中进行电镀，以在衬底上形成⁶³Ni放射源层，所述电镀液中含有⁶³NiCl₂、三氯化铈、pH值缓冲剂和导电盐且余量为水。

本发明还提供了由上述方法制备得到的⁶³Ni放射源。

本发明的发明人经过深入研究之后发现，当采用主体为氯化镍的电镀液进行电镀制备⁶³Ni放射源时，以三氯化铈作为添加剂能够提高镀层沉积速度、镀层分散能力和阴极极化能力，改善镀层表面质量，使镀层晶粒细化并降低镀层气孔率，从而使所得镀层(⁶³Ni放射源层)与衬底紧密结合，提高镀层的稳定性、致密性和耐腐蚀性，所得⁶³Ni放射源层均匀、致密、具有金属光泽，而且还具有很好的重复性，能够降低工业生产过程中的操作难度，易于批量生产，满足社会对⁶³Ni纯β放射源的需求。

具体实施方式