[发明专利]一种LED芯片、制备方法及显示面板在审

专利信息
申请号: 202010785112.8 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN112968091A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 王涛;伍凯义 申请(专利权)人: 重庆康佳光电技术研究院有限公司
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/46;H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 李发兵
地址: 402760 重庆市璧*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 led 芯片 制备 方法 显示 面板
【说明书】:

发明涉及一种LED芯片、制备方法及显示面板,在LED芯片外延层的电极部署面上设置了多个凹凸粗化结构,因此可以降低LED芯片所发出的光因为全反射而被限制在外延层内部的可能,提升了外延层在该面上的光提取效率,增强了LED芯片的显示效果,有利于提升基于该LED芯片所制得的显示面的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示领域,尤其涉及一种LED芯片、制备方法及显示面板。

背景技术

作为一种发光器件,LED(Light-Emitting Diode,发光二极管)能够高效率地将电能转换为光能,可以显著降低能量转换过程中的损失,节能环保。同时,LED还有响应速度快、寿命长等优点,由于这些优越的性能,LED 已经在照明、显示等领域得到了非常广泛的应用,尤其是在显示领域中,LED不断地更新迭代,现在即将进入Mini-LED(迷你LED)时代,未来还有Micro-LED(微LED)时代、OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)时代等。

不过,目前LED芯片的出光效率不高,导致基于LED芯片制备得到的显示面板显示效果欠佳。因此,如何提升LED芯片的出光效率是亟需解决的问题。

发明内容

鉴于上述相关技术的不足,本申请的目的在于提供一种LED芯片、制备方法及显示面板,旨在解决相关技术中LED芯片出光效率不高,影响显示面板显示效果的问题。

一种LED芯片,包括:

外延层;

与外延层中第一半导体层连接的第一电极;以及,

与外延层中第二半导体层连接的第二电极;

外延层的电极部署面上设置有凹凸粗化结构。

上述LED芯片中,因为在外延层的电极部署面上设置了多个凹凸粗化结构,因此可以降低LED芯片所发出的光因为全反射而被限制在外延层内部的可能,提升了外延层在该面上的光提取效率。,增强了LED芯片的显示效果,有利于提升基于该LED芯片所制得的显示面的显示效果。

可选地,外延层除了主出光面以外的其他表面均设置有凹凸粗化结构,主出光面为与电极部署面相对的一面。

上述LED芯片,在外延层上除主出光面以外的表面区域上均设置了凹凸粗化结构,进一步增大了LED芯片的光提取效率,有利于进一步提升LED 芯片的显示效果。

可选地,所述LED芯片还包括:覆盖在所述外延层的电极部署面上的反射层,所述第一电极与所述第二电极均外露于所述反射层。

上述LED芯片因为还在电极部署面上设置了反射层,因此可以将从外延层电极部署面上射出的光再反射回去,使得这些光从外延层上与电极部署面相对的主出光面射出,避免了LED芯片发出的光从设置电极的一侧漏出,进而导致主出光面出光率不足的问题,进一步提升了LED芯片的主出光面一侧的出光率。

可选地,反射层包覆外延层除主出光面及电极设置区以外的区域,主出光面为与电极部署面相对的一面,电极设置区为电极部署面上设置电极的区域。

上述LED芯片,因为在外延层除主出光面以外的各表面上均设置了反射层,从而使得LED芯片发出的光不会从这些表面射出,而只能在经过反射后从主出光面射出,避免了光从其他区域漏出而浪费的问题,提升了主出光面的出光率。

可选地,LED芯片还包括第一绝缘层,第一绝缘层设置在反射层与外延层之间,且第一绝缘层与外延层二者相接触的面形状匹配,相互咬合;第一绝缘层朝向反射层的表面平坦。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司,未经重庆康佳光电技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010785112.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top