[发明专利]一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法在审
申请号: | 202010787005.9 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN111876090A | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 洪立志;卢文辉;丰秀琴;刘浪 | 申请(专利权)人: | 东莞市航达电子有限公司 |
主分类号: | C09J7/29 | 分类号: | C09J7/29;C09J7/30;C09J4/02;C09J11/00;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 刘刚 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 系统 防爆膜 制作方法 | ||
1.一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,真空蒸镀防爆膜包括基材层(1),其特征在于,于所述的基材层(1)的下表面依次附着阻隔UV的OCA光学胶层(2)和离型膜(3),于所述的基材层(1)上表面依次附着有电镀层(4)和PE保护层(5);
所述的光学胶层(2)采用热固化光学胶涂层,并且于该光学胶层(2)中加入有抗UV阻隔剂。
2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的基材层(1)采用PET光学基材膜,或者TPU光学基材膜。
3.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的OCA光学胶层(2)中抗紫外线阻隔剂的含量为:5-10%。
4.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的OCA光学胶层(2)中抗的组分及各组分的重量配比为:
丙烯酸酯86-92%;
抗紫外线阻隔剂5-10%;
改性剂2-8%;
固化剂0.4-0.8%。
5.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述OCA光学胶层(2)能阻隔镭射激光,阻隔率约为65%,本光学胶层2在贴覆玻璃板4小时后,趋于稳定。
6.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:与所述产品对应的镭射雕刻机参数如下:
功率:<1250W;
脉冲:50/60HZ;
速度:0-400mm/s;
波长:355NM。
7.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:真空蒸镀防爆膜的总厚度:250um±5um、基材厚度:50±5um、涂胶厚度:25±5um、离型膜厚度:125±5um、保护膜厚度:50um±5um、粘性:>17N/inch。
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