[发明专利]一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法在审

专利信息
申请号: 202010787005.9 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111876090A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 洪立志;卢文辉;丰秀琴;刘浪 申请(专利权)人: 东莞市航达电子有限公司
主分类号: C09J7/29 分类号: C09J7/29;C09J7/30;C09J4/02;C09J11/00;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 代理人: 刘刚
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 系统 防爆膜 制作方法
【权利要求书】:

1.一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,真空蒸镀防爆膜包括基材层(1),其特征在于,于所述的基材层(1)的下表面依次附着阻隔UV的OCA光学胶层(2)和离型膜(3),于所述的基材层(1)上表面依次附着有电镀层(4)和PE保护层(5);

所述的光学胶层(2)采用热固化光学胶涂层,并且于该光学胶层(2)中加入有抗UV阻隔剂。

2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的基材层(1)采用PET光学基材膜,或者TPU光学基材膜。

3.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的OCA光学胶层(2)中抗紫外线阻隔剂的含量为:5-10%。

4.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述的OCA光学胶层(2)中抗的组分及各组分的重量配比为:

丙烯酸酯86-92%;

抗紫外线阻隔剂5-10%;

改性剂2-8%;

固化剂0.4-0.8%。

5.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:所述OCA光学胶层(2)能阻隔镭射激光,阻隔率约为65%,本光学胶层2在贴覆玻璃板4小时后,趋于稳定。

6.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:与所述产品对应的镭射雕刻机参数如下:

功率:<1250W;

脉冲:50/60HZ;

速度:0-400mm/s;

波长:355NM。

7.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀系统及真空蒸镀防爆膜的制作方法,其特征在于:真空蒸镀防爆膜的总厚度:250um±5um、基材厚度:50±5um、涂胶厚度:25±5um、离型膜厚度:125±5um、保护膜厚度:50um±5um、粘性:>17N/inch。

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