[发明专利]一种高浓度含氰贫液的处理方法

权利要求书

1.一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，包括：

(1)将含氰贫液置于电解槽中；

(2)采用碳基材料作为阳极，采用金属材料作为阴极，对含氰贫液进行电催化氧化，对含氰贫液中的游离氰、金属氰络合离子、以及SCN^-的氧化分解；

(3)采用碳基材料作为阴极，采用金属材料作为阳极，通过电化学处理使阳极的金属离子与经步骤(2)处理后的含氰贫液中的金属氰络合离子结合形成沉淀，完成对高浓度含氰贫液的处理。

2.根据权利要求1所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，在步骤(2)中的对含氰贫液进行电催化氧化时，电流密度为80A/m²～400A/m²，电解时间为4～10h；并在含氰贫液的pH为4.8～7.0时，停止对含氰贫液的电催化氧化处理。

3.根据权利要求2所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，在步骤(2)中的对含氰贫液的电催化氧化处理，还包括：在含氰贫液中的游离氰的去除率至少为98％、SCN^-的去除率至少为80％、以及重金属离子残留量小于50mg/L时，即可完成对含氰贫液进行电催化氧化处理；

若游离氰和SCN^-的去除率、以及重金属离子残留量未达到上述范围内，则继续对含氰贫液进行电催化氧化处理。

4.根据权利要求1所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，在步骤(3)中的通过电化学处理使含氰贫液中的金属氰络合离子结合形成沉淀时，电压控制范围为0.6V～2.0V，含氰贫液的pH值通过硫酸控制在2～5，电解时间为电解1～5h。

5.根据权利要求4所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，在步骤(3)中的通过电化学处理使含氰贫液中的金属氰络合离子结合形成沉淀时，还包括：在含氰贫液中氰根和重金属浓度均低于50mg/L时，即可停止对含氰贫液的电化学处理。

6.根据权利要求1所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，所述碳基材料为石墨板、碳毡和碳纤维中的一种。

7.根据权利要求1所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，所述金属材料为高析氢过电位金属材料。

8.根据权利要求7所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，所述高析氢过电位金属材料为铜、铁、锌和其合金材料中的一种。

9.根据权利要求1所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，所述阳极和所述阴极之间的极距为25～35mm。

10.根据权利要求1至9任一项所述的一种高浓度含氰贫液的处理方法，其特征在于，步骤(1)中的所述含氰贫液的总氰浓度为2500～3000mg/L。