[发明专利]一种高分子涂料原料研磨装置

权利要求书

1.一种高分子涂料原料研磨装置，其结构包括设备底座(1)、驱动电机(2)、出料筒(3)、匀触系统(4)、调节盘(5)、进料斗(6)、回流管(7)，其特征在于：所述驱动电机(2)设于设备底座(1)上表面右侧并通过电焊相连接，所述出料筒(3)设于设备底座(1)上表面左侧通过电焊相连接，所述匀触系统(4)设于出料筒(3)上表面并通过电焊相连接，所述调节盘(5)设于匀触系统(4)上表面并通过电焊相连接，所述进料斗(6)设于调节盘(5)上表面并通过电焊贯穿相连接，所述回流管(7)一端与匀触系统(4)贯穿相连接另一端设于进料斗(6)上方；

所述匀触系统(4)包括弹料机构(4a)、网板(4b)、匀磨结构(4c),所述网板(4b)设于弹料机构(4a)中部并通过电焊相连接，所述匀磨结构(4c)设于网板(4b)上表面并通过电焊相连接。

2.根据权利要求1所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述弹料机构(4a)包括套框(4a1)、空腔(4a2)、嵌洞(4a3)、复位弹簧(4a4)、捋弹组件(4a5)、弹绳(4a6)，所述空腔(4a2)设于套框(4a1)内部且为一体化结构，所述嵌洞(4a3)共设有六个且分别设于套框(4a1)内环表面，所述嵌洞(4a3)与套框(4a1)为一体化结构，所述捋弹组件(4a5)共设有六块且分别穿过嵌洞(4a3)与套框(4a1)内壁通过复位弹簧(4a4)相连接，所述捋弹组件(4a5)下部与网板(4b)间隙相连接，所述弹绳(4a6)共设有六条且分别设于两块捋弹组件(4a5)之间并通过电焊相连接。

3.根据权利要求2所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述捋弹组件(4a5)包括滑块(4a51)、框条(4a52)、凸条(4a53)，所述滑块(4a51)与网板(4b)间隙相连接，所述框条(4a52)设于滑块(4a51)下表面且为一体化结构，所述凸条(4a53)呈波浪形结构且设于框条(4a52)内上部并通过电焊相连接。

4.根据权利要求1或3所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述网板(4b)上表面设有六根顶轴(g)并与滑块(4a51)相对应安装，所述顶轴(g)与凸条(4a53)通过推动相连接。

5.根据权利要求4所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述顶轴(g)上部呈波浪形结构并与凸条(4a53)间隙相连接。

6.根据权利要求1所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述匀磨结构(4c)包括旋转轴(4c1)、底磨组件(4c2)、滚杆(4c3)、加热条(4c4)，所述底磨组件(4c2)共设有两根且分别呈对称状安装于旋转轴(4c1)表面，所述底磨组件(4c2)与旋转轴(4c1)通过电焊垂直相连接，所述滚杆(4c3)共设有两根且分别安装于底磨组件(4c2)末端并通过电焊相连接，所述加热条(4c4)共设有两条且分别安装于底磨组件(4c2)内部并通过电焊相连接。

7.根据权利要求6所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述底磨组件(4c2)包括活动框(4c21)、捣杆(4c22)、重力盖(4c23)、限位弹圈(4c24)，所述捣杆(4c22)设有若干根且分别安装于活动框(4c21)下表面，所述重力盖(4c23)设于活动框(4c21)内部并与捣杆(4c22)通过电焊相连接，所述限位弹圈(4c24)与重力盖(4c23)相套合。

8.根据权利要求7所述的一种高分子涂料原料研磨装置，其特征在于：所述捣杆(4c22)呈圆锥型结构且与网板(4b)表面设有的孔洞间隙相连接。