[发明专利]电致变色器件的制备方法及电致变色器件

说明书

本发明公开一种电致变色器件的制备方法及电致变色器件，其中，所述电致变色器件的制备方法包括以下步骤：提供一基板；自所述基板向外依次沉积形成第一透明导电层、电致变色层和第一离子传输层；对所述第一离子传输层进行清洗，以去除所述第一离子传输层中的杂质颗粒；在所述第一离子传输层背向所述基板的一侧沉积第二离子传输层；Li化所述第二离子传输层和所述第一离子传输层；以及在所述第二离子传输层背向所述第一离子传输层的一侧依次沉积对电极层和第二透明导电层，以形成电致变色器件。本发明通过除去第一离子传输层的杂质颗粒，利用第二离子传输层填充第一离子传输层上的孔洞，防止由于杂质颗粒而导致的电致变色层和对电极层短路的问题。

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种电致变色器件的制备方法及电致变色器件。

背景技术

电致变色器件大体上可分为全固态及非全固态两种，其中非全固态电致变色器件结构为纯无机物，不存在电解液泄露、材料易分解老化等问题，耐紫外辐射，因为被广泛使用在幕墙玻璃等领域。目前全固态电致变色器件普遍为五层膜结构，如图1所示，电致变色器件包含第一透明导电层(TCO)、电致变色层(EC)、离子传输层(IC)、对电极层(CE)、第二透明导电层(TCO)。

IC层起到绝缘EC层和CE层电子传输，同时允许离子穿过。在无机固态电致变色器件中，IC层主要使用氧化硅、氧化锆、氧化钽、氧化铌以及其他氧化物或氮化物。因磁控溅射工艺可精确控制膜层的质量及均匀性，其已成为制备大面积全固态电致变色器件的首选，但在磁控溅射工艺的过程中，很容易产生大量小杂质颗粒，如图2所示。小杂质颗粒容易使离子传输IC层的绝缘作用消失，导致杂质周围的电致变色层和对电极层短路，无法实现变色功能，严重影响视觉效果。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种电致变色器件的制备方法及电致变色器件，旨在改善现有的电致变色器件制备工艺制得的产品容易存在的电致变色层和对电极层短路的问题。

为实现上述目的，本发明提出的电致变色器件的制备方法，包括以下步骤：

提供一基板；

自所述基板向外依次沉积形成第一透明导电层、电致变色层和第一离子传输层；

对所述第一离子传输层进行清洗，以去除所述第一离子传输层中的杂质颗粒；

在所述第一离子传输层背向所述基板的一侧沉积第二离子传输层；

Li化所述第二离子传输层和所述第一离子传输层；以及

在所述第二离子传输层背向所述第一离子传输层的一侧依次沉积对电极层和第二透明导电层，以形成电致变色器件。

可选地，所述对所述第一离子传输层进行清洗的步骤中，采用干式清洗工艺或湿式清洗工艺对所述第一离子传输层进行清洗。

可选地，所述第一离子传输层和所述第二离子传输层的总厚度为10～300nm，其中，所述第一离子传输层的厚度占所述第一离子传输层和所述第二离子传输层的总厚度的10～90％。

可选地，所述第一离子传输层和所述第二离子传输层的总厚度为20～80nm，其中，所述第一离子传输层的厚度占所述第一离子传输层和所述第二离子传输层的总厚度的40～60％。

可选地，所述第一离子传输层为金属氧化物，或者，金属的氮化物、碳化物、氧氮化物，或者金属的氧碳化物类似物或氧碳化物的至少一种；和/或

所述第二离子传输层为金属氧化物，或者，金属的氮化物、碳化物、氧氮化物，或者，金属的氧碳化物类似物或氧碳化物的至少一种。

可选地，所述第一离子传输层为Ta₂O₅，所述第二离子传输层为SiO₂；