[发明专利]试样预处理装置在审

专利信息
申请号: 202010805626.5 申请日: 2020-08-12
公开(公告)号: CN112485076A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 高桥和辉;寺岛健太 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/34;G01N27/62
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 试样 预处理 装置
【权利要求书】:

1.一种试样预处理装置,向试样的表面涂布溶解有或分散有规定的物质的溶液,所述试样预处理装置具备:

喷洒部,其包括用于流通所述溶液的溶液管、用于流通喷雾气体的气体管以及通过喷出经过所述气体管后的喷雾气体来将到达所述溶液管的末端的所述溶液进行喷雾的喷嘴部;以及

清洗液供给部,其从所述喷洒部的外侧向所述喷嘴部的开口施加清洗液。

2.根据权利要求1所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述喷洒部还具备针,该针从所述溶液管的开口突出规定长度,所述清洗液供给部向该针的前端部施加清洗液。

3.根据权利要求1所述的试样预处理装置,其特征在于,

还具备控制部,该控制部控制所述喷洒部进行的喷雾动作和所述清洗液供给部进行的供给清洗液的动作,以使每当该喷洒部以规定时间执行了溶液的喷雾时实施来自该清洗液供给部的清洗液的释放。

4.根据权利要求1所述的试样预处理装置,其特征在于,还具备:

检测部,其检测向所述溶液管供给的溶液的流量;以及

控制部,其根据所述检测部的检测结果来实施来自所述清洗液供给部的清洗液的释放。

5.根据权利要求1所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述清洗液供给部在所述喷嘴部的每一次清洗时供给的清洗液的供给量为0.1mL~3mL左右的范围。

6.根据权利要求1所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述溶液为基质辅助激光解吸离子化质谱分析用的基质溶液,所述清洗液为该溶液的溶剂。

7.根据权利要求2所述的试样预处理装置,其特征在于,

还具备控制部,该控制部控制所述喷洒部进行的喷雾动作和所述清洗液供给部进行的供给清洗液的动作,以使每当该喷洒部以规定时间执行了溶液的喷雾时实施来自该清洗液供给部的清洗液的释放。

8.根据权利要求2所述的试样预处理装置,其特征在于,还具备:

检测部,其检测向所述溶液管供给的溶液的流量;以及

控制部,其根据所述检测部的检测结果来实施来自所述清洗液供给部的清洗液的释放。

9.根据权利要求2所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述清洗液供给部在所述喷嘴部的每一次清洗时供给的清洗液的供给量为0.1mL~3mL左右的范围。

10.根据权利要求5所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述溶液为基质辅助激光解吸离子化质谱分析用的基质溶液,所述清洗液为该溶液的溶剂。

11.根据权利要求9所述的试样预处理装置,其特征在于,

所述溶液为基质辅助激光解吸离子化质谱分析用的基质溶液,所述清洗液为该溶液的溶剂。

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