[发明专利]试样预处理装置

说明书

本发明提供一种试样预处理装置，准确且高效地解除由基质物质的结晶的沉淀引起的喷嘴的堵塞。本发明所涉及的试样预处理装置的一个方式是向试样的表面涂布溶解有或分散有规定的物质的溶液的试样预处理装置，该试样预处理装置具备：喷洒部(3)，其包括用于流通所述溶液的溶液管(32)、用于流通喷雾气体的气体管(33)以及通过喷出经过所述气体管后的喷雾气体来将到达所述溶液管的末端的所述溶液进行喷雾的喷嘴部(30)；以及所述清洗液供给部(4、41)，其从所述喷洒部的外侧向所述喷嘴部的开口施加清洗液。

技术领域

本发明涉及一种试样预处理装置，该试样预处理装置通过向试样的表面涂布规定的溶液或者形成规定物质的膜，来进行对该试样进行分析时的预处理。

背景技术

近年来，开发了一种使用了基质辅助激光解吸离子化(MALDI＝Matrix AssistedLaser Desorption Ionization)法来作为离子化法的成像质谱分析装置。在成像质谱分析装置中，例如能够基于针对生物组织切片等试样上的二维区域内的多个测定点分别进行质谱分析所得到的结果，来调查具有特定质量的物质的分布。

为了使用这种装置对试样进行质谱分析，需要在该分析之前进行使MALDI用基质(以下，简称为“基质”)薄薄地附着在试样的表面的试样预处理。作为使基质附着于具有大到某种程度的面积的试样的方法，最一般的是使用了喷枪的基质溶液喷涂法(以下，简称为“喷洒法”)。例如，在非专利文献1中公开了一种利用喷洒法自动进行基质涂布的基质自动喷洒装置。

图6是专利文献1中公开的喷洒装置的主要部分的概要结构图。该装置具备试样台21和喷洒部3，在试样台21安装有试样100。试样台21沿图中示出的X轴和Y轴方向移动自如。喷洒部3包括用于流通喷雾气体的气体管33、用于流通基质溶液的溶液管32以及前端收缩为大致圆锥形状的喷嘴30。在喷嘴30的内部，两个管32、33以气体管33包围溶液管32的周围的方式形成为双层管构造，这两个管32、33均在末端具有开口。在也作为喷嘴30的中心的溶液管32的中心插入有针31，针31的前端在Z轴上比溶液管32的末端的开口321更突出一些。罩34覆盖喷嘴30整体，在该罩34上且针31的前端的前方形成有规定尺寸的喷雾口341。

在使基质溶液附着在试样100的表面时，将基质溶液供给至溶液管32并充满该管路内，并且向气体管33供给高达某种程度的压力的气体。这样一来，从喷嘴30内的气体管33的前端的开口喷出高压的喷雾气体，溶液管32的前端的开口321附近由于文丘里效应而减压。由此，溶液管32内的基质溶液沿针31被抽出到开口321的外侧。被抽出的该基质溶液通过喷雾气体的强气流被切断而成为微小液滴后，随着该喷雾气体的流动从喷雾口341向Z轴方向(图6中为右方)喷出。通过这样，从喷洒部3喷射出的基质溶液附着在试样台21上的试样100的表面。通过使试样台21在X-Y面内适当地移动，能够使基质溶液薄薄地附着在试样100上的大面积的区域。

此外，也可以没有针31，但是通过使基质溶液沿针31流动，基质溶液的切断效率提高，这对该溶液的细微化有效。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2019/106799号小册子

非专利文献

非专利文献1：“HTX M5 Sprayer^TM Features Overview”，[online]，美国HTXTechnologies,LLC.[2019年8月21日检索]、网络＜URL：http：//www.htximaging.com/htx-m5-sprayer＞

发明内容

发明要解决的问题