[发明专利]一种围栅器件的设计方法和装置

权利要求书

1.一种围栅器件的设计方法，其特征在于，所述方法包括：

根据中道MEOL电容模型和围栅GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库，其中，所述GAA版图库是围栅GAA结构的集成电路器件版图库，包括多个GAA版图，所述MEOL电容模型是基于所述GAA器件工艺设计参数的MEOL模型；

通过调用所述MEOL动态链接库和后道BEOL电容模型得到GAA的电阻电容RC工艺数据库；

根据当前版图设计对所述GAA RC工艺数据库进行2.5D版图扫描，得到与所述当前版图设计匹配的RC寄生参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述MEOL电容模型是根据神经网络训练得到的。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，根据所述MEOL电容模型和所述GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库之前，所述方法还包括：

根据大量的GAA版图工艺尺寸，以及所述GAA版图对应的MEOL电容的测试数据或者所述GAA版图进行三维蒙特卡洛仿真得到的MEOL电容仿真数据，经过神经网络训练，得到所述MEOL电容模型。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，所述BEOL电容模型包括基于所述GAA版图中互连线版图工艺尺寸的BEOL寄生电容查找表。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，根据所述MEOL电容模型和所述GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库之前，所述方法还包括：

根据实际GAA器件中互连线版图的工艺设计参数，通过三维电场解算器对BEOL电容模型文件进行仿真，得到多个GAA版图对应的BEOL寄生电容查找表。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，根据所述MEOL电容模型和所述GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库之前，所述方法还包括：

根据版图设计工艺规则和实际需求设计多个GAA版图图样，所述GAA版图库包括所述多个GAA版图图样。

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，所述GAA版图库中包括以下中的至少一项GAA版图：

栅极过孔分布在源极或漏极位置区域的GAA版图、栅极两端分别布局过孔引出的GAA版图、增加金属线绕线数目的GAA版图、减少金属线绕线数目的GAA版图、大栅间距的GAA版图、栅端伸长版的GAA版图。

8.根据权利要求1-7任一项所述的方法，其特征在于，所述MEOL电容包括以下中的至少一项：

栅极到纳米线或纳米片的前后顶边边缘电容、所述栅极到所述纳米线或所述纳米片的上下顶边边缘电容、所述栅极到源极或者漏极的纵向耦合电容、所述栅极到所述源极或所述漏极过孔的纵向耦合电容、所述栅极到衬底的电容、所述栅极到金属线1的电容、金属线2同层间的耦合电容、所述金属线1与所述金属线2之间的电容、所述金属线1到所述金属线2的电容。

9.根据权利要求1-8任一项所述的方法，其特征在于，所述GAA器件工艺设计参数包括以下中的至少一项：

纳米片或纳米线的高度、宽度、厚度，栅极的高度、宽度、厚度，金属互连线的宽度、长度、厚度，介质层的厚度、介电常数。

10.一种围栅器件的设计装置，其特征在于，所述装置包括：

编译模块，用于根据中道MEOL电容模型和围栅GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库，其中，所述GAA版图库是围栅GAA结构的集成电路器件版图库，包括多个GAA版图，所述MEOL电容模型是基于所述GAA器件工艺设计参数的MEOL模型；

RC抽取模块，用于通过调用所述MEOL动态链接库和后道BEOL电容模型得到GAA的电阻电容RC工艺数据库；

版图扫描模块，用于根据当前版图设计对所述GAA RC工艺数据库进行2.5D版图扫描，得到与所述当前版图设计匹配的RC寄生参数。