[发明专利]一种围栅器件的设计方法和装置

说明书

本申请提供一种围栅器件的设计方法及装置，涉及集成电路技术领域。用于解决围栅GAA结构的场效应器件的布局版图设计时间过长、效率较低的问题。该方法包括：根据中道MEOL电容模型和围栅GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库，其中，GAA版图库是围栅GAA结构的集成电路器件版图库，包括多个GAA版图，MEOL电容模型是基于GAA器件工艺设计参数的MEOL模型；通过调用MEOL动态链接库和后道BEOL电容模型得到GAA的电阻电容RC工艺数据库；根据当前版图设计对GAARC工艺数据库进行2.5D版图扫描，得到与当前版图设计匹配的RC寄生参数。

技术领域

本申请涉及集成电路技术领域，尤其涉及一种围栅器件的设计方法和装置。

背景技术

随着集成电路技术的发展，围栅(Gate-all-around，GAA)器件相对于平面结构的单栅和鳍式(Fin)结构的三栅FET等而言，具有更好的栅控能力，对短沟效应的抑制作用更强，因此作为下一代场效应器件的热门备选。因而围栅器件的版图设计优化成为目前较为棘手的技术难题。

现有的场效应器件的版图设计可以通过电子设计自动化(Electronic designautomation，EDA)工具的版图寄生抽取(Layout Parasitic Extraction，LPE)功能来实现，例如，Fin结构的场效应管。具体可以通过电阻电容(Resistance Capacitance，RC)工艺数据建模、生产版图，以及进行2.5D寄生抽取RC参数等一系列流程。

但是，由于围栅结构的FET比平面或者Fin结构的FET更加复杂，生成的RC工艺数据库容量较大，进行查找表的时间也过长，且现有的内置版图设计库无法覆盖实际的GAA版图设计，因此，现有的GAAFET的版图设计效率比较低。

发明内容

本申请提供一种围栅器件的设计方法和装置，解决了围栅结构的场效应器件的版图设计时间过长、效率较低的问题。

为达到上述目的，本申请采用如下技术方案：

第一方面，提供一种围栅器件的设计方法，该方法包括：根据中道MEOL电容模型和围栅GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库，其中，GAA版图库是围栅GAA结构的集成电路器件版图库，包括多个GAA版图，MEOL电容模型是基于GAA器件工艺设计参数的MEOL模型；通过调用MEOL动态链接库和后道BEOL电容模型得到GAA的电阻电容RC工艺数据库；根据当前版图设计对GAARC工艺数据库进行2.5D版图扫描，得到与当前版图设计匹配的RC寄生参数。

上述技术方案中，通过设计全新的GAA版图库，并根据GAA版图库得到GAA版图对应的MEOL电容模型，生成动态的MEOL电容链接库。从而使得当前设计GAA版图时，可以基于GAA版图库中所预配置的一个GAA布局版图，调用包括MEOL电容模型和BEOL电容模型文件的GAARC工艺数据库，扫描得到当前的版图设计所对应的电阻电容值。从而节省了生成RC参数的时间，提高RC参数的提取效率。另外，通过设计全新的GAA版图库避免了由于现有内置版图库无法覆盖实际GAA的布局版图设计，从而避免了用于匹配3D电场解算器工具而反复调整2.5D抽取工具精度的一系列迭代运算，进一步提高版图设计的交付效率。

在一种可能的设计方式中，MEOL电容模型是根据神经网络训练得到的。上述可能的实现方式中，通过应用神经网络算法进行参数训练得到MEOL电容模型，可以提高GAA版图的RC提取效率。

在一种可能的设计方式中，根据MEOL电容模型和GAA版图库经过编译生成MEOL动态链接库之前，该方法还包括：根据大量的GAA版图工艺尺寸，以及GAA版图对应的MEOL电容的测试数据或者GAA版图进行三维蒙特卡洛仿真得到的MEOL电容仿真数据，经过神经网络训练，得到MEOL电容模型。