[发明专利]光刻用照光装置及自动调整其照度的方法

说明书

本发明公开一种光刻用照光装置及自动调整其照度的方法，所述装置包含：用于发出光线的一光投射单元、用于驱动所述光投射单元的一驱动单元、用于反射所述光线的一反射镜、用于感测所述反射镜上一光强度的一光感测器及用于根据所述光强度控制所述驱动装置移动所述光投射单元的一控制器。所述方法通过在所述驱动单元驱动所述光投射单元的X轴、Y轴及Z轴方向上移动所述光投射单元，根据感测所述反射镜上的一定点处的光强度，得出所述光投射单元的一最佳位置。

技术领域

本发明涉及光刻制程领域，尤其涉及一种光刻用照光装置及自动调整其照度的方法。

背景技术

随着市场对面板分辨率的要求越来越高，薄膜晶体管(TFT)须越来越小以便兼顾高开口率及低功耗。因此对光刻制程的要求也日益提高。光刻制程对光线的照度均一性及能量强度要求甚高。其中输出的照度越大，则用于光刻的能量越强，曝光速度也相应地加快。为了获得最大的照度输出，须将光源发出的光线的最亮位置(最大照度输出点)用于所述光刻制程。在现有光刻用灯箱中，更换新光源后须手动调整光源的位置以获得最大照度输出。且光源被使用一段时间后，其最大照度输出点会逐渐改变，因此需要反复手动调整光源的位置，造成人力与时间的浪费。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供了一种光刻用照光装置及自动调整其照度的方法。根据本发明的一个方面，提供了一种光刻用照光装置,所述光刻用照光装置包含︰

一光投射单元，包含一发光器件；

一驱动单元，与所述光投射单元相连接，以移动所述光投射单元；

一反射镜，所述反射镜设置于所述光投射单元的光投射路径上，以将所述光投射单元发出的光反射向光刻制程的一目标物，及为所述光感测器提供感测的一定点；

一光感测器，在所述反射镜上，且用以感测所述光投射单元所发出的光于所述反射镜上的所述定点的光强度；及

一控制器，用于接收所述光感测器所感测到的至少一光强度资讯，并根据所述至少一光强度资讯以指示所述驱动单元移动所述光投射单元。

根据本发明的一些实施例，所述控制器是通过比对所述光投射单元的位置及所述定点的光强度，得出所述光投射单元的一最佳位置，当所述光投射单元位于所述最佳位置时，所述定点的光强度为最强。

根据本发明的一些实施例，所述驱动单元包含数个驱动器，所述数个驱动器中的每一个分别能够在X轴、Y轴或Z轴中的一个轴的方向上移动所述光投射单元。

根据本发明的一些实施例，所述控制器用以储存所述光投射单元的多笔位置资讯及所述光感测器所测得的多笔光强度资讯，并根据所述多笔位置资讯及与所述多笔位置资讯分别相对应的所述光强度资讯，建构一位置与光强度的三维对应分布表，并依据所述位置与光强度的三维对应分布表指示所述驱动单元移动所述光投射单元。

根据本发明的一些实施例，所述光投射单元是以数个丝杆与所述数个驱动器相连接。

根据本发明的一些实施例，所述光投射单元包含一椭圆凹面镜，所述椭圆凹面镜用以指向化并聚焦所述光投射单元发出的光。

根据本发明的另一个方面，提供了一种自动调整一光刻用照光装置照度的方法，包括步骤：

提供一光刻用照光装置步骤，所述光刻用照光装置包含：一光投射单元、一驱动单元、一反射镜、一光感测器及一控制器；

发出光线步骤，启动所述光投射单元，持续发出光线；

反射光线步骤，以所述反射镜持续将所述光线反射向光刻制程的一目标物；