[发明专利]一种原位原子层沉积扫描电子显微镜

说明书

本发明公开一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，涉及原位测试领域，包括机架，所述机架上设置有电镜腔室，所述电镜腔室一侧设置有开口，所述电镜腔室一侧的开口端固定连接有密封阀，所述密封阀远离所述电镜腔室的一侧固定安装有原子层沉积室，所述原子层沉积室远离所述密封阀的一侧固定安装有水平设置的磁力杆，所述磁力杆内活动穿设有磁力杆轴，所述磁力杆轴端部能够水平运动于原子层沉积室或电镜腔室内；所述电镜腔室顶部密封安装有电子枪，所述电镜腔室底部密封连接有分子泵。本发明能够进行原位原子层沉积的测试，且能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测。

技术领域

本发明涉及原位测试技术领域，特别是涉及一种原位原子层沉积扫描电子显微镜。

背景技术

原位测试技术的应用对材料学的发展起到了推动作用，材料测试过程中，通过电子显微镜对材料微观形貌进行全程动态监测，能够更深入地揭示各类材料及其制品的微观形貌。

工业生产中为了改善各种各样材料的性能，进行表面涂层是应用最广泛的方法之一，目前制备方法主要有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、原子层沉积(ALD)。其中，原子层沉积技术作为一种特殊的化学气相沉积技术，制备的涂层相比于其他方法具有多种优点。原子层沉积(ALD)技术正逐渐成为了微电子器件制造，半导体领域的必要技术。

目前，已有的装置无法进行原位原子层沉积的测试，且不能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测，因此开发原位原子层沉积测试系统，对研究材料薄膜的形貌具有重要意义。

发明内容

本发明的目的是提供一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，以解决上述现有技术存在的问题，能够进行原位原子层沉积的测试，且能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：

本发明提供一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，包括机架，所述机架上设置有电镜腔室，所述电镜腔室一侧设置有开口，所述电镜腔室一侧的开口端固定连接有密封阀，所述密封阀远离所述电镜腔室的一侧固定安装有原子层沉积室，所述原子层沉积室远离所述密封阀的一侧固定安装有水平设置的磁力杆，所述磁力杆内活动穿设有磁力杆轴，所述磁力杆轴端部能够水平运动于原子层沉积室或电镜腔室内；所述电镜腔室顶部密封安装有电子枪，所述电镜腔室底部密封连接有分子泵。

可选的，所述机架上固定安装有减震台，所述电镜腔室固定设置于所述减震台上；所述减震台上开设有通孔，所述分子泵通过所述减震台的通孔与所述电镜腔室连接。

可选的，所述电镜腔室侧壁上设置有观察窗，所述观察窗采用透明材质制成。

可选的，所述机架底部对称设置有四个地脚，所述地脚的高度能够调节。

可选的，所述机架底部安装有滚轮，所述滚轮设置于相邻两个所述地脚之间。

可选的，所述电镜腔室底部对称设置有四个垫块，所述电镜腔室通过垫块与所述减震台固定连接。

本发明相对于现有技术取得了以下技术效果：

本发明结构简单、使用方便，能够进行原位原子层沉积的测试，且能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测；减震台能够消除振动以免影响设备。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明原位原子层沉积扫描电子显微镜结构示意图；

图2为本发明原位原子层沉积扫描电子显微镜内试样镀膜状态示意图；