[发明专利]一种用于光刻机的防震装置及光刻机

说明书

本发明公开了一种用于光刻机的防震装置，具体涉及零部件检测领域，包括主体基座、气压密封器和磁悬防震机构，磁悬防震机构与气压密封器分别安装在主体基座中，气压密封器通过释放气体，磁悬防震机构包括磁悬移动板、密封滑球和导向板，所述磁悬移动板内嵌在所述导向板中，所述磁悬移动板在所述导向板中滑动安装；所述密封滑球活动安装在磁悬移动板与导向板之间；本发明还公开了采用该防振装置的光刻机。该装置结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基座的刚性需求和防微震要求，能够减少振动，进一步地提高加工精度。

技术领域

本发明涉及光刻机辅助防震装置，具体涉及一种用于光刻机的防震装置及光刻机。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。意思是用光来制作一个图形(工艺)；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

其中工件主体基座顾名思义就是放工件的平台，由于光刻加工的精度要求高，所以需要一个能够具备减少内部振动传递至工件主体基座的装置。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明提供一种用于光刻机的防震装置，能够减少光刻机工作时的振动，同时减少外部振动的传播，提高加工精度。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种用于光刻机的防震装置，包括：磁悬防震机构，所述磁悬防震机构包括磁悬移动板、密封滑球和导向板，所述磁悬移动板内嵌在所述导向板中，所述磁悬移动板在所述导向板中滑动安装；所述密封滑球活动安装在磁悬移动板与导向板之间；所述磁悬移动板具有多个密封隔层，所述密封隔层位于磁悬移动板两侧位置，且上下两侧均有设置；所述密封隔层之间的距离，在远离导向板的方向，距离逐渐减少；所述导向板具有密封间层，所述密封间层位于导向板中，靠近磁悬移动板方向，且同时设置在上下两侧，所述密封间层位与所述密封隔层错位无接触相对安装；所述密封隔层具有磁性，所述密封间层具有磁性，所述密封间层位与所述密封隔层磁性相反。

进一步的，还包括主体基座与气压密封器，所述气压密封器固定安装在主体基座中，用于对磁悬防震机构中的磁悬移动板与导向板，进行气封。

进一步的，所述主体基座包括主体、支撑立柱、隔层地脚和吸震器，所述支撑立柱设置在主体下，位于主体四角处，所述隔层地脚固定安装在所述支撑立柱下，所述吸震器一面固定安装在所述支撑立柱上，吸震器另一面固定安装在所述主体下。

进一步的，所述吸震器包括壳体、释压孔与传递件，所述壳体中装入有防冻液、所述释压孔设在壳体表面，所述传递件固定设置在壳体内表面，并延伸至防冻液的液位中；

所述传递件具有传递铲面与固定段，所述固定段设置在靠近壳体内表面处，所述传递铲面设置在固定段上，用于将振动传递给防冻液中。

上述用于光刻机的防震装置的有益效果是：

(1)本发明结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境；

(2)通过磁悬方式，将用于光刻刻蚀的移动板进行悬浮，极大的减少了外部振动带来加工误差，进一步地提高了加工精度。

(3)在磁悬移动板具有多个密封隔层与导向板具有多个密封间层，两者两两间隔相对安装，且通过密封滑球防止其左右相撞，并通过密封隔层与密封间层的磁性相反，避免上下碰撞，减少损伤。

本发明的另一目的是提供一种光刻机，包括上述的用于光刻机的防震装置。

进一步的，该光刻机采用紫外光作为光源。

进一步的，所述紫外光的波长在10-365nm之间。