[发明专利]绿色版图的认证方法及预警点的风险性的判断方法

说明书

本发明提供了一种绿色版图的认证方法，包括：获取版图上的第一低风险点；获取第一低风险点的当前层的版图形状、参考层的版图形状、OPC模拟值和OPC修正后的值，并建立第一信息库；获得出版版图的预警点，判断预警点的当前层的版图在第一范围内是否和第一信息库中的当前层版图相同；如果相同，则判断预警点的参考层的版图形状在第二范围内是否和第一信息库中的参考层的版图形状是否相同；如果相同，则判断预警点的OPC模拟值是否和第一信息库中的OPC模拟值中相同；如果相同，则判断预警点的OPC修正后的值是否和第一信息库中的OPC修正后的值相同；如果相同，则认为预警点为第二低风险点，多个第二风险点形成所述第二信息库。可以用于过滤相同的低风险点。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种绿色版图的认证方法及预警点的风险性的判断方法。

背景技术

在光刻工艺中，由于光学临近效应(Optical Proximity Effect)，设计图形经过曝光之后在晶圆上的实际图形会和原始设计略有差异，所以引入光学修正技术(OpticalProximity Correct，OPC)来弥补由光学系统的有限分辨率造成的误差。随着芯片的技术节点进入几十纳米，OPC技术得到大量广泛的使用，同时版图设计的复杂度以及线宽的逐渐变小，使得光学修正的程式也越来越复杂。

对于已实现量产的技术节点的产品，在进行OPC出版时，大量低风险的预警报错点重复实现，针对重复出现的低风险预警报错点，OPC修正规则一般不建议修改，并且OPC修正规则也较难修改。因此，为了提高对真正高风险点的关注并且提升OPC修正的效率，需要寻找一种方法来滤除掉已知的低风险点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种绿色版图的认证方法及预警点的风险性的判断方法，可以滤掉版图上已知的低风险点，提高对高风险点的关注度，最终提升OPC修正的效率。

为了达到上述目的，本发明提供了一种绿色版图的认证方法，用于建立出版版图的OPC处理的低风险点的信息库，包括：

获取成品版图上的低风险区域，所述低风险区域包括多个第一低风险点；

获取第一低风险点的当前层的版图形状、参考层的版图形状、OPC模拟值和OPC修正后的值，并建立第一信息库；

获得出版版图的预警点的信息，判断所述预警点的当前层的版图在第一范围内是否和所述第一信息库中的当前层版图相同；

如果预警点的当前层的版图形状在第一范围内和第一信息库中的当前层版图形状相同，则判断预警点的参考层的版图形状在第二范围内是否和所述第一信息库中的参考层的版图形状是否相同；

如果预警点的参考层的版图形状在第二范围内和所述第一信息库中的参考层版图形状相同，则判断所述预警点的OPC模拟值是否和第一信息库中的OPC模拟值中相同；

如果述预警点的OPC模拟值和第一信息库中的OPC模拟值中相同，则判断所述预警点的OPC修正后的值是否和所述第一信息库中的OPC修正后的值相同；

如果所述预警点的OPC修正后的值和所述第一信息库中的OPC修正后的值相同，则认为所述预警点为第二低风险点，多个所述第二风险点形成所述第二信息库。

可选的，在所述的绿色版图的认证方法中，如果预警点的当前层的版图形状在第一范围内和所述第一信息库中的当前层版图形状不相同或者预警点的参考层的版图形状在第二范围内和所述第一信息库中的参考层版图形状不相同或者预警点的OPC模拟值和所述第一信息库中的OPC模拟值中不相同或者预警点的OPC修正后的值和所述第一信息库中的OPC修正后的值不相同，则该预警点需要人工判断是否为第二低风险点。

可选的，在所述的绿色版图的认证方法中，所述第一范围为当前层的设计规则的3倍～5倍。