[发明专利]一种转速可调节的按摩系统及足浴器

权利要求书

1.一种转速可调节的按摩系统，其特征在于，包括调速模块、电机模块、按摩组件、主控板MCU处理模块以及输入模块，所述输入模块与主控板MCU处理模块相连，所述主控板MCU处理模块与调速模块控制相连，所述调速模块与电机模块驱动相连，所述电机模块驱动按摩组件。

2.根据权利要求1所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，所述电机模块为直流电机，所述调速模块为可控硅斩波电路或可控硅丢波电路或可控硅移相电路。

3.根据权利要求1所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，所述输入模块包括按键模块、压力采集输入模块以及温度采样输入模块。

4.根据权利要求3所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，所述压力采集输入模块以及温度采样输入模块为压力/温度传感器，所述压力/温度传感器分别用于测量人足部在按摩组件上产生的压力以及足浴器内水温。

5.根据权利要求4所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，当所述压力传感器测量人足部在按摩组件上产生的压力越大，所述按摩组件输出的按摩力度越小；当所述压力传感器测量人足部在按摩组件上产生的压力越小，所述按摩组件输出的按摩力度越大。

6.根据权利要求4所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，当随着时间的推移，所述温度传感器测量足浴器内的水温越高，所述按摩组件输出的按摩力度越小；当所述温度传感器测量足浴器内的水温越低，所述按摩组件输出的按摩力度越大。

7.根据权利要求1所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，所述按键模块上设置有多种转速档位。

8.根据权利要求1所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，还包括水泵模块以及加热模块，所述加热模块与主控板MCU处理模块相连，所述水泵模块与主控板MCU处理模块相连。

9.根据权利要求8所述的转速可调节的按摩系统，其特征在于，当足浴器内水位下降或者水温度降低时，所述水泵模块以及加热模块分别用于对足浴器内进行补水或者辅助加热。

10.一种足浴器，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的转速可调节的按摩系统。