[发明专利]一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法

说明书

本发明公开了一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法，涉及零部件加工技术领域，为解决现有的零部件加工用镀膜设备在使用的过程中无法对零部件进行均匀的镀膜加工，导致镀膜后零部件表面凹凸不平的问题。所述镀膜加工台的上端设置有真空镀膜腔体，所述镀膜加工台的一侧设置有预处理台，所述预处理台的内部设置有电源箱和收料架，所述收料架的上端设置有打磨基板，所述打磨基板的上端设置有打磨机，所述打磨基板的内部设置有检测框架，且检测框架与打磨基板一体成型设置，所述检测框架的内部设置有摆放凹槽，且摆放凹槽与检测框架一体成型设置，所述摆放凹槽的上方设置有活动检测板。

技术领域

本发明涉及零部件加工技术领域，具体为一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法。

背景技术

零部件加工属于配件加工厂，是指提供机械制造的零散配件，零部件加工加工制造业主要是对采掘业产品和农产品等原材料进行加工，或对加工工业的产品进行再加工和修理，或对零部件进行装配的工业部门的总称。一般指冶金、机械、电子、化学、石油化工、木材加工、建筑材料、造纸、纺织、食品、皮革工业等，零部件在加工的过程中需要进行镀膜操作，镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。

现有的零部件加工用镀膜设备在使用的过程中无法对零部件进行均匀的镀膜加工，导致镀膜后的零部件表面凹凸不平，影响零部件的成品度，为此，我们提供一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法，以解决上述背景技术中提出的现有的零部件加工用镀膜设备在使用的过程中无法对零部件进行均匀的镀膜加工，导致镀膜后零部件表面凹凸不平的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种零部件加工用均匀镀膜设备及其使用方法，包括镀膜加工台，所述镀膜加工台的上端设置有真空镀膜腔体，所述镀膜加工台的一侧设置有预处理台，所述预处理台的内部设置有电源箱和收料架，所述收料架的上端设置有打磨基板，所述打磨基板的上端设置有打磨机。

优选的，所述打磨基板的内部设置有检测框架，且检测框架与打磨基板一体成型设置，所述检测框架的内部设置有摆放凹槽，且摆放凹槽与检测框架一体成型设置，所述摆放凹槽的上方设置有活动检测板，所述活动检测板的两端外壁上均设置有密封挡板，且密封挡板与检测框架的内壁紧密贴合。

优选的，所述检测框架的两侧内壁上均设置有定位轨道，且定位轨道与检测框架一体成型设置，所述活动检测板的两端均设置有承载内槽，且承载内槽与活动检测板一体成型设置，所述活动检测板的上端设置有推板，且推板与活动检测板一体成型设置。

优选的，所述承载内槽的内部设置有传动滚轮，且传动滚轮与定位轨道的内壁滚动连接，所述传动滚轮的两端均设置有连接轴，且连接轴与传动滚轮一体成型设置。

优选的，所述承载内槽的两侧内壁上均设置有轴承固定槽，且轴承固定槽与承载内槽一体成型设置，所述轴承固定槽的内部设置有轴承，且连接轴通过轴承与承载内槽活动连接。

优选的，所述真空镀膜腔体的内部设置有两个负极电极板，两个所述负极电极板之间设置有镀膜靶材，所述镀膜靶材的上端设置有发射电极，所述发射电极的上端设置有冷却水循环机构。

优选的，所述镀膜靶材的正下方设置有正极电极板，且负极电极板和正极电极板均设置在真空镀膜腔体的内部，所述正极电极板的上端设置有零部件基片，且零部件基片位于镀膜靶材的正下方。

优选的，所述真空镀膜腔体的前端面上设置有密闭前盖，且密闭前盖与真空镀膜腔体通过合页活动连接，所述真空镀膜腔体的上端设置有真空泵组，且真空泵组的抽气端与真空镀膜腔体的内部连通设置。