[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法在审

专利信息
申请号: 202010840506.9 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN112509940A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 角间央章;沖田有史;犹原英司;增井达哉;出羽裕一 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02;H01L21/027
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;宋晓宝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其中,

具有:

保持部,用于保持基板;

拍摄部,用于在多个部位对包括被保持的所述基板的外缘部的拍摄范围进行拍摄,并且输出所述基板的多个图像数据;

提取部,用于从多个所述图像数据之间的差分图像提取所述基板的所述外缘部;以及

判定部,用于基于所述差分图像中的所述基板的所述外缘部,判定所述基板的保持状态。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,

所述判定部基于所述差分图像中的所述外缘部的长度,判定所述基板的保持状态。

3.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置,其中,

所述判定部基于所述差分图像中的所述外缘部的长度的最大值,判定所述基板的保持状态。

4.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置,其中,

所述拍摄部对沿被保持的所述基板的所述外缘部延伸的所述拍摄范围进行拍摄。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中,

所述拍摄部对沿所述基板的所述外缘部延伸的拱形的所述拍摄范围进行拍摄。

6.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置,其中,

所述拍摄部从所述基板的上方拍摄被保持的所述基板。

7.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置,其中,

所述拍摄部从所述基板的外周侧拍摄被保持的所述基板。

8.根据权利要求1或者2所述的基板处理装置,其中,

所述基板处理装置还具有报警部,所述报警部在所述判定部中判定为所述基板的保持状态为异常状态的情况下,发出警报。

9.一种基板处理方法,其中,

具有:

保持基板并使基板旋转的工序;

在多个部位对包括旋转的所述基板的外缘部的拍摄范围进行拍摄,并且输出所述基板的多个图像数据的工序;

从多个所述图像数据之间的差分图像,提取所述基板的所述外缘部的工序;以及

基于所述差分图像中的所述基板的所述外缘部,判定所述基板的保持状态的工序。

10.根据权利要求9所述的基板处理方法,其中,

判定所述基板的保持状态的工序是基于所述差分图像中的所述外缘部的长度,判定所述基板的保持状态的工序。

11.根据权利要求9或者10所述的基板处理方法,其中,

判定所述基板的保持状态的工序是基于所述差分图像中的所述外缘部的长度的最大值,判定所述基板的保持状态的工序。

12.根据权利要求9或者10所述的基板处理方法,其中,

在拍摄旋转的所述基板的工序之后,所述基板处理方法还具有对所述基板进行处理的工序。

13.根据权利要求9或者10所述的基板处理方法,其中,

在拍摄旋转的所述基板的工序之前,所述基板处理方法还具有对所述基板进行清洗处理的工序,

拍摄旋转的所述基板的工序是在所述清洗处理之后且对所述基板进行干燥处理之前进行的工序。

14.根据权利要求9或者10所述的基板处理方法,其中,

所述基板处理方法还具有:在判定所述基板的保持状态的工序中判定为所述基板的保持状态为异常状态的情况下,停止所述基板的旋转的工序。

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