[发明专利]氮化镓肖特基二极管多级限幅电路有效

专利信息
申请号: 202010846921.5 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN111987144B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 张进成;党魁;周弘;张燕妮;张涛;张苇杭;宁静;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/20;H01L29/40;H01L29/872;H03F1/52
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氮化 镓肖特基 二极管 多级 限幅 电路
【说明书】:

发明公开了一种氮化镓肖特基二极管多级限幅电路,主要解决现有限幅器功率容量小,响应速度慢的问题。其自左到右依次为第一级对管(1)、第二级对管(2)、第三级对管(3),各级对管之间通过微带线L连接,三级对管均采用凹槽阳极结构的横向氮化镓肖特基二极管,第一级对管中的两个二极管采用Pt作为阳极金属,开启电压1.2V;第二级对管中的两个二极管采用Ni作为阳极金属,开启电压0.8V,第三级对管中的两个二极管采用W或Mo作为阳极金属,开启电压0.4V。本发明通过采用开启电压逐级减小的氮化镓肖特基二极管,显著提升了限幅电路的频率响应,降低了限幅电平,提高了功率容量,可用于微波防护。

技术领域

本发明属于微波技术领域,特别涉及一种氮化镓肖特基二极管多级限幅电路,可用于微波防护。

技术背景

随着科技的不断进步,电子设备不断朝着集成化、小型化发展。更多更先进的精密元器件大幅增加了设备功能和性能,但也使得设备系统更加复杂,为保证设备能够应对高功率微波的冲击,需要进行专业的微波防护设计。雷达接收机的核心低噪声放大器容易被接收到的高功率微波烧毁,需要在其前端设计限幅电路,使小功率微波信号能较小损耗的通过,高功率微波信号被衰减到低功率电平,从而实现对低噪声放大器的保护。

传统限幅器采用Si材料的PIN二极管,该Si材料的PIN二极管由于拥有低掺的P区、非掺的I区以及低掺的N区,存在电子与空穴两种载流子的充放电过程,导致器件时间常数过长,限幅器响应速度慢。同时由于Si材料的窄禁带特性,进一步限制了限幅器性能,难以继续提升功率容量和频率响应,且在耐高温、抗辐照等方面也面临严重考验。

宽禁带半导体材料GaN具有极大的电学性能优势,AlGaN/GaN异质结结构因其强大的自发极化和压电极化效应,会在靠近界面处GaN一侧感生出高浓度的二维电子气,由于电子被限制在势阱中,且该区域杂质掺杂极少,因此电离杂质散射和合金无序散射较小,二维电子气具有极高的迁移率和电子饱和速率,且GaN由于材料固有的宽禁带属性,其临界击穿场强极大,适合制作大功率高频微波器件,有望应用于限幅电路并大幅提升性能,但目前缺乏相关的技术解决方案与研究成果。

发明内容

本发明在于提出一种氮化镓肖特基二极管多级限幅电路,旨在通过高性能氮化镓肖特基二极管的使用和电路结构的设计,减小限幅电平,增加功率容量,提升限幅电路性能。

为实现上述目的,本发明的氮化镓肖特基二极管多级限幅电路,包括第一级对管、第二级对管、第三级对管,各级对管之间通过微带线L连接,其特征在于:

每一级对管均采用两只凹槽阳极结构的横向氮化镓肖特基二极管,其中一只二极管的阳极与微带线连接,阴极接地,另一只二极管的阴极与微带线连接,阳极接地;

所述第一级对管采用厚度为50-200nm的Pt作为阳极金属,开启电压为1.2V;

所述第二级对管采用厚度为50-200nm的Ni作为阳极金属,开启电压为0.8V;

所述第三级对管采用厚度为50-200nm的W或Mo作为阳极金属,开启电压为0.4V。

进一步,所述微带线L分为参数不同的四段;第一级对管中的一只二极管阳极连接在第一段微带线L1与第二段微带线L2之间,另一只管子的阴极连接在第一段微带线L1与第二段微带线L2之间;第二级对管中的一只二极管阳极连接在第二段微带线L2与第三段微带线L3之间,另一只管子的阴极连接在第二段微带线L2与第三段微带线L3之间;第三级对管中一只二极管阳极连接在第三段微带线L3与第四段微带线L4之间,另一只管子的阴极连接在第三段微带线L3与第四段微带线L4之间。

进一步,所述凹槽阳极结构的横向氮化镓肖特基二极管,自下而上包括SiC衬底、AlN成核层、GaN缓冲层、AlN插入层、AlGaN势垒层、SiN和SiO2双层钝化层,该GaN缓冲层至双层钝化层中间设有阳极凹槽,凹槽侧壁及凹槽边缘上层设有阳极,阳极边缘的AlGaN势垒层上设有阴极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010846921.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top