[发明专利]一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法及真空气囊

说明书

本发明提供一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其可以有效的缩短真空腔体抽气时间，提高工作效率，降低加工成本。本发明技术方案中，通过设置一种真空气囊，将真空气囊预先进行真空抽气，然后放入进出片腔体，达到缩短抽真空时间，提高工作效率的目的。同时本发明还公开了一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体为一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法及真空气囊。

背景技术

真空气相沉积技术是指，在初始真空态前提下，对真空态的工艺腔室内通入工艺气体，然后对工艺气体以及镀膜衬底施加反应条件，例如温度、电场、辐射、激光等，让工艺气体与沉底发生理化反应，最终在沉底上成膜。现有加工工序是：首先将放置待镀膜基片的基片承载盘经过通过导轨、滚轮或者其它传输装置进入镀膜工艺腔体，然后在对工艺腔体通过真空泵等方式进行真空抽气。因为真空腔室有传输基片的需求，内部还需要安装加热器、工艺气体入口等大量可能会干涉的部件，所以大部分时候不能直接将真空腔体做成异型的，即无论何种镀膜需求都使用同样真空腔体；很多时候对真空腔体的抽气所需的时间过长，进而导致加工工时边长，进而导致整体加工工序成本变高。

发明内容

为了解决现有的镀膜工序中对真空腔体抽气所需时间过长导致整体加工工序成本变高的问题，本发明提供一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其可以有效的缩短真空腔体抽气时间，提高工作效率，降低加工成本。同时本发明还公开了一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊。

本发明的技术方案是这样的：一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其包括以下步骤：

S1：将放置待镀膜基片的基片承载盘通过进出片腔体运传输至所述工艺发生腔体；

S2：对所述进出片腔体进行真空抽取；

其特征在于，其还包括以下步骤：

在步骤S2实施之前，实施以下步骤：

a1：预先按照所述进出片腔体的体积，准备本次需要使用的抽气提速用真空气囊；

a2：将所述真空气囊预先进行真空抽气；

a3：将内部处于真空状态所述真空气囊放入所述进出片腔体中。

其进一步特征在于：

根据工艺需要，所述真空气囊放置于所述基片承载盘单侧或者双侧；

根据所述待镀膜基片产能需要，通过更换不同体积的所述真空气囊，调整所述进出片腔体中需要抽气的空腔体积大小。

一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊，其特征在于，其包括：

内部为真空腔的气囊本体，所述气囊本体外形为矩形，所述气囊本体的侧壁上设置用于连接真空泵的预抽口。

其进一步特征在于：

所述气囊本体的四周分布设置防滑块；

所述气囊本体的材质为薄壁金属材质；

所述气囊本体的壁厚的厚度范围为：2mm~3mm。

本发明提供的一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其将真空气囊预先进行真空抽气，然后放入进出片腔体，可以有效的减少进出片腔体内部的抽真空必要容积，提高进出片腔体的抽真空速度，缩短抽真空时间，提高工作效率，降低工序成本，有效提高整条产线的产能；同时，减少了真空腔体体积的工艺发生腔，还可以根据具体的产能需要，选用功率和抽气速度更小的真空泵，调整抽气时间，进一步的减少真空镀膜生产线的设备投入成本。

附图说明

图1为放入了真空气囊的进出片腔体的俯视的结构示意图；