[发明专利]一种光学元件及其制备方法

权利要求书

1.一种光学元件，其特征在于，包括：

光学微结构，所述光学微结构是由透镜、棱镜或者锥形镜组成的阵列，所述阵列中相邻的两个透镜、棱镜或者锥形镜之间存在空隙；

位于所述光学微结构表面上的无机材料层；

位于所述无机材料层表面上的含氟碳键有机层；

其中，所述含氟碳键有机层的折射率小于所述光学微结构的折射率。

2.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，还包括：

设置于所述光学微结构之下的基底，用于支撑所述光学微结构。

3.如权利要求1或者2所述的光学元件，其特征在于，所述无机材料层的折射率大于所述含氟碳键有机层的折射率，且，小于所述光学微结构的折射率。

4.如权利要求2所述的光学元件，其特征在于，所述光学微结构，从靠近所述基底一侧到远离所述基底一侧，其截面面积逐渐减小。

5.如权利要求4所述的光学元件，其特征在于，所述光学微结构，从靠近所述基底一侧到远离所述基底一侧，其截面面积逐渐减小，包括：

所述光学微结构中的微透镜为汇聚光束的凸形微透镜，或者，所述光学微结构中的微透镜为折射光束的锥形镜或者棱镜；

所述凸形微透镜、锥形镜或者棱镜从靠近所述基底一侧到远离所述基底一侧，其截面面积逐渐减小。

6.如权利要求1或者2所述的光学元件，其特征在于，所述无机材料层的厚度为5nm至300m，相应的，所述含氟碳键有机层的厚度为40nm至1000m。

7.如权利要求1或者2所述的光学元件，其特征在于，所述无机材料层为SiO₂、TiO₂、Si₃N₄或者Al₂O₃材料层。

8.如权利要求1或者2所述的光学元件，其特征在于，所述含氟碳键有机层所采用的材料为聚四氟乙烯PTFE、氟化乙烯丙烯共聚物FEP或者以聚四氟乙烯分子长链为骨架的聚合物。

9.一种光学元件的制备方法，其特征在于，包括：

将无机材料沉积至光学微结构表面，生成位于所述光学微结构的表面上的无机材料层，其中，所述光学微结构是由透镜、棱镜或者锥形镜组成的阵列，所述阵列中相邻的两个透镜、棱镜或者锥形镜之间存在空隙；

将含氟碳键有机材料沉积至所述无机材料层表面，生成位于所述无机材料层表面上的含氟碳键有机层；

其中，所述含氟碳键有机层的折射率小于所述光学微结构的折射率。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，将含氟碳键有机材料沉积至所述无机材料层表面，包括：

采用等离子体增强化学汽相沉积法，将所述含氟碳键有机材料沉积至所述无机材料层表面。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述无机材料层的折射率大于所述含氟碳键有机层的折射率，且，小于所述光学微结构的折射率。

12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述无机材料层的厚度为5nm至300nm，相应的，所述含氟碳键有机层的厚度为40nm至1000nm。

13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述无机材料为SiO₂、TiO₂、Si₃N₄或者Al₂O₃。

14.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述含氟碳键有机材料为聚四氟乙烯PTFE、氟化乙烯丙烯共聚物FEP或者以聚四氟乙烯分子长链为骨架的聚合物。